[发明专利]高导热微波衰减器材料及其制备方法有效
申请号: | 200810227383.0 | 申请日: | 2008-11-27 |
公开(公告)号: | CN101734922A | 公开(公告)日: | 2010-06-16 |
发明(设计)人: | 杨志民;董桂霞;马书旺;杜军;毛昌辉 | 申请(专利权)人: | 北京有色金属研究总院 |
主分类号: | C04B35/581 | 分类号: | C04B35/581;C04B41/88;H01P1/22 |
代理公司: | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人: | 耿小强 |
地址: | 100088 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 导热 微波 衰减器 材料 及其 制备 方法 | ||
1.一种高导热微波衰减器材料,其特征在于:包括金属相Mo或W:1.65~ 2.01vol.%;介质相AlN:93~96vol.%;烧结助剂CaF2:2~5vol.%,所述金属相 Mo或W为磁控溅射镀膜,其制备方法步骤如下:
(1)将高纯Mo或W靶装在磁控溅射炉腔体中,在磁控溅射炉体内配置多个 可以转动的盛料桶;
(2)将AlN粉末与CaF2粉末按体积比19∶1~40∶1混合均匀,采用玛瑙罐和氧化 锆球,以无水乙醇为研磨介质,按照球料比4∶1在高能行星球磨机上混料24小时, 转速为125转/分,得到混合粉体浆料;
(3)将步骤(2)所述的混合粉体浆料干燥筛分后,装入磁控溅射镀膜机的盛 料桶中;盛料桶的转速为30~50转/分,摆动周期2秒;
(4)采用高纯Mo或W靶,抽真空至1.O×10-2Pa以下,氩气工作气压为O.13~ O.15Pa,溅射功率为250~300W,溅射时间为2~3h,每溅射10min间歇3min,得 到镀有Mo膜的Mo-AlN或镀有W膜的W-AlN粉体;
(5)将步骤(4)所得镀有Mo膜的Mo-AlN或镀有W膜的W-AlN粉体在250~ 350℃氢气保护下热处理,并根据镀膜前后重量差测量并计算金属占复合材料的体 积百分比;
(6)将步骤(5)所得Mo-AlN或W-AlN复合粉体先进行单向轴压成型,然后 进行冷等静压成型,得到Mo-AlN或W-AlN复合生坯;
(7)将步骤(6)所得复合生坯置于ZrO2或AlN坩埚中进行氮气氛下1650~ 1720℃×1~3h常压烧结,即得到Mo-AlN或W-AlN复合块体材料;
(8)将步骤(7)所述复合块体材料按具体使用时的形状和尺寸进行加工,即 得到用于微波衰减器的Mo-AlN或W-AlN复合块体材料。
2.一种高导热微波衰减器材料的制备方法,其步骤如下:
(1)将高纯Mo或W靶装在磁控溅射炉腔体中,在磁控溅射炉体内配置多个 可以转动的盛料桶;
(2)将AlN粉末与CaF2粉末按体积比19∶1~40∶1混合均匀,采用玛瑙罐和氧化 锆球,以无水乙醇为研磨介质,按照球料比4∶1在高能行星球磨机上混料24小时, 转速为125转/分,得到混合粉体浆料;
(3)将步骤(2)所述的混合粉体浆料干燥筛分后,装入磁控溅射镀膜机的盛 料桶中;盛料桶的转速为30~50转/分,摆动周期2秒;
(4)采用高纯Mo或W靶,抽真空至1.0×10-2Pa以下,氩气工作气压为0.13~ 0.15Pa,溅射功率为250~300W,溅射时间为2~3h,每溅射10min间歇3min,得 到镀有Mo膜的Mo-AlN或镀有W膜的W-AlN粉体;
(5)将步骤(4)所得镀有Mo膜的Mo-AlN或镀有W膜的W-AlN粉体在250~ 350℃氢气保护下热处理,并根据镀膜前后重量差测量并计算金属占复合材料的体 积百分比;
(6)将步骤(5)所得Mo-AlN或W-AlN复合粉体先进行单向轴压成型,然后 进行冷等静压成型,得到Mo-AlN或W-AlN复合生坯;
(7)将步骤(6)所得复合生坯置于ZrO2或AlN坩埚中进行氮气氛下1650~ 1720℃×1~3h常压烧结,即得到Mo-AlN或W-AlN复合块体材料;
(8)将步骤(7)所述复合块体材料按具体使用时的形状和尺寸进行加工,即 得到用于微波衰减器的Mo-AlN或W-AlN复合块体材料。
3.根据权利要求2所述的高导热微波衰减器材料的制备方法,其特征在于: 所述步骤(5)中所述的在250~350℃氢气保护下热处理的时间为1小时。
4.根据权利要求2所述的高导热微波衰减器材料的制备方法,其特征在于: 所述步骤(6)中所述单向轴压成型为在3~5Mpa下进行1~5min,所述冷等静压 成型为在200Mpa下进行15min。
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