[发明专利]两次及多次曝光采样布拉格光栅及制作方法

权利要求书

1.一种基于重构-等效啁啾技术的采样布拉格光栅，利用全息曝光技术形成的光波导器件，其特征是所述采样布拉格光栅每个采样分成等距离的m个部分，每个采样的中的第n部分，n＝0，1，...m-1，的相位是n×(2π/m)，该采样光栅的1级影子光栅的有效强度最大，为均匀布拉格光栅的m/π×sin(∏/m)×100％；或者每个采样的中的第n部分的相位是-n×(2π/m)，该采样光栅的-1级影子光栅的有效强度最大，为均匀布拉格光栅的m/π×sin(∏/m)×100％；

其中两次全息曝光形成的所述采样布拉格光栅，在一个采样区间分成长度相等的两个部分，写入两种不同相位的所述布拉格光栅；两个部分包含的所述布拉格光栅之间的相位差为π时，0级及所有其他偶数级影子光栅消失，±1级强度达到最大值，为均匀DFB结构光栅的64％，是一次曝光采样光栅±1级强度的两倍；

三次全息曝光形成的基于重构-等效啁啾技术的采样布拉格光栅，在一个采样区间分成长度相等的三个部分，写入三种不同相位的所述布拉格光栅；三个部分包含的所述布拉格光栅之间的相位差为0，2/3π，4/3π时，消除-1和0级，并且使1级的强度提高到均匀DFB结构光栅的83％；或三个部分包含的所述布拉格光栅之间的相位差为0，-2/3π，-4/3π时，消除1和0级，并且使-1级的强度提高到均匀DFB结构光栅的83％；

四次全息曝光形成的基于重构-等效啁啾技术的采样布拉格光栅，在一个采样区间分成长度相等的四个部分，写入四种不同相位的布拉格光栅；四个部分包含的所述布拉格光栅之间的相位差为0，1/2π，π，3/2π时，消除-4到4级中除了-3和1级以外的其余7级，并且使1级的强度提高到均匀DFB结构光栅的90％；或四个部分包含的所述布拉格光栅之间的相位差为0，-1/2π，-π，-3/2π时，可消除-4到4级中除了3和-1级以外的其余7级，并且使-1级的强度提高到均匀DFB结构光栅的90％。

2.根据权利要求1所述的基于重构-等效啁啾技术的采样布拉格光栅，其特征是所述采样布拉格光栅是光纤布拉格光栅或平面波导布拉格光栅。

3.根据权利要求2的所述的基于重构-等效啁啾技术的采样布拉格光栅，其特征是所述光纤布拉格光栅写在光敏光纤上形成滤波器，写在有源光纤上形成单波长或多波长激光器；所述平面波导布拉格光栅写在折射率耦合、增益耦合或折射率增益混合耦合半导体激光器中。

4.根据权利要求1所述的基于重构-等效啁啾技术的采样布拉格光栅，其特征是采用变占空比的方法来实现采样光栅的切趾，通过取样区间中各个分段长度而等效的实现对曝光强度的控制，从而实现对采样光栅的切趾；即沿光栅分布方向，对采样区间中的第一部分宽度加以一个函数调制，然后剩下部分宽度按比例调整，写入不同相位的光栅。

5.一种制备如权利要求1所述的基于重构-等效啁啾技术的采样布拉格光栅的方法，其特征是在采样布拉格光栅中，确定各部分长度比例和光栅相位，依次写入各部分光栅。