[发明专利]阿达玛变换近红外光谱仪检测光的方法及光谱仪有效
申请号: | 200810239143.2 | 申请日: | 2008-12-10 |
公开(公告)号: | CN101419164A | 公开(公告)日: | 2009-04-29 |
发明(设计)人: | 张新民 | 申请(专利权)人: | 北京华夏科创仪器技术有限公司 |
主分类号: | G01N21/45 | 分类号: | G01N21/45 |
代理公司: | 北京海虹嘉诚知识产权代理有限公司 | 代理人: | 张 涛 |
地址: | 100085北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 阿达玛 变换 红外 光谱仪 检测 方法 | ||
1.阿达玛变换近红外光谱仪检测光的方法,包括入射光被准直后投射到光栅的步骤、投射到光栅的光发生第一次衍射并经准直后投射到微镜阵列的步骤,其特征在于还包括如下步骤:
A、经微镜阵列调制并反射的光被准直后投射到所述光栅进行第二次衍射;
B、聚焦步骤A第二次衍射的光到检测器;
所述准直和聚焦步骤采用凹镜反射实现,用凹镜反射实现的准直步骤包括入射光被准直、第一次衍射后准直及步骤A中的准直步骤;所述微镜阵列采用反射式微镜阵列,所述光栅采用反射式光栅。
2.阿达玛变换近红外光谱仪,包括入射光路上依次设置的第一凹镜、光栅、第二凹镜和微镜阵列,其特征在于还包括设置在入射光入射口附近的检测器,所述第一凹镜、光栅、第二凹镜和微镜阵列均为反射式器件;入射光射到第一凹镜被准直并反射出a光;a光射到光栅被衍射并反射出b光;b光射到第二凹镜被准直后反射出c光;c光射到微镜阵列被调制并反射出d光;d光射到第二凹镜被准直并反射出e光;e光射到所述光栅被衍射并反射出f光;f光射到第一凹镜被准直后反射到所述检测器。
3.阿达玛变换近红外光谱仪,包括入射光路上依次设置的第一凹镜、光栅、第二凹镜和微镜阵列,其特征在于还包括设置在入射光入射口附近的检测器,所述第一凹镜、光栅、第二凹镜和微镜阵列均为反射式器件;入射光射到第一凹镜被准直并反射出a光;a光射到光栅被衍射并反射出b光;b光射到第二凹镜被准直后反射出c光;c光射到所述微镜阵列被调制并反射出d光;还包括在d光光路上依次设置的第三凹镜与第四凹镜,第三凹镜与第四凹镜均为反射式器件;d光射到第三凹镜被准直并反射出e光;e光射到所述光栅被衍射并反射出f光;f光射到第四凹镜被准直后反射到所述检测器。
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