[发明专利]一种工艺过程参数的可视化装置和方法

权利要求书

1.一种工艺过程参数的可视化装置，其特征在于，用于展示多种工艺过程参数随时间的变化情况，该装置包括：

时间轴动态调整模块，用于依据一过程参数的目标样本点的时间值，对展示该过程参数的时间轴的最大值和最小值进行动态调整；

数值轴动态调整模块，用于依据一过程参数在当前时间轴范围内的样本点的最大参数值和/或最小参数值，对展示该过程参数的数值轴的最大值和/或最小值进行动态调整；

展示模块，用于采用动态调整得到的时间轴范围和数值轴范围，对相应的过程参数随时间的变化情况进行展示。

2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，时间轴动态调整模块所采用的调整规则为：

所述时间轴的最大值和最小值之差为一固定阈值；

所述目标样本点为最新样本点，所述时间轴的最大值为最新样本点的时间值与预设时间间隔值之和。

3.如权利要求1所述的装置，其特征在于，时间轴动态调整模块所采用的调整规则为：

所述目标样本点为最新样本点，当曲线最新样本点的时间值与时间轴当前最大值的差小于预设阈值时，对当前时间轴的最大值和最小值都增加一个预设的时间间隔值。

4.如权利要求1所述的装置，其特征在于，数值轴动态调整模块所采用的调整规则为：

所述数值轴的最大值为样本点在当前时间轴范围内的最大参数值与预设数值间隔值之和；

和/或，所述数值轴的最小值为样本点在当前时间轴范围内的最小参数值与预设数值间隔值之差。

5.如权利要求1所述的装置，其特征在于，数值轴动态调整模块所采用的调整规则为：

当样本点最大参数值超过当前数值轴最大值时，对数值轴进行调整，调整后的数值轴最大值为所述样本点最大参数值与预设数值间隔值之和；

当样本点最大参数值小于当前数值轴最大值，并且差距大于预设的条件阈值时，对数值轴进行调整，调整后的数值轴最大值为所述样本点最大参数值与预设数值间隔值之和。

6.如权利要求1所述的装置，其特征在于，还包括图像控制模块，用于针对一过程参数，依据所接收的用户输入信息，

控制展示模块所展示的相应图像的显示或隐藏；

和/或，控制展示模块所展示的相应图像的颜色；

和/或，控制展示模块所展示的相应图像的线宽；

和/或，控制展示模块所展示的相应图像的线型。

7.如权利要求6所述的装置，其特征在于，还包括：

放大模块，用于针对一展示图像，获取用户选择的矩形区域，将矩形区域顶点的像素坐标转换为坐标轴取值，然后通知展示模块以新的坐标轴取值范围，对该过程参数随时间的变化情况进行展示。

8.如权利要求7所述的装置，其特征在于，还包括：

拖拽模块，用于针对一展示图像，接收用户基于像素坐标的拖拽偏移量；将基于像素坐标的拖拽偏移量变换为坐标轴偏移量，获取新的坐标轴取值范围；然后通知展示模块以新的坐标轴取值范围，对该过程参数随时间的变化情况进行展示。

9.如权利要求8所述的装置，其特征在于，还包括：

样本点信息显示模块，用于针对用户所选择的样本点，在预置区域显示相关的样本点信息，所述样本点信息包括该样本点的具体参数值。

10.如权利要求9所述的装置，其特征在于，还包括：

样本点捕捉模块，用于判断用户当前的鼠标点是否位于某个样本点区域内，如果是，则确定该样本点就是用户所选择的样本点；所述样本点区域为以该样本点为中心、具有预设半径的圆形区域。

11.如权利要求9所述的装置，其特征在于，还包括：

样本点信息管理模块，用于控制样本点信息显示模块的开启或关闭。

12.如权利要求9所述的装置，其特征在于，所述工艺过程参数的可视化装置用于半导体沉积工艺或者刻蚀工艺中的过程参数采集和分析。