[发明专利]一种分块曝光的方法及其装置有效

专利信息
申请号: 200810240541.6 申请日: 2008-12-23
公开(公告)号: CN101442617A 公开(公告)日: 2009-05-27
发明(设计)人: 谌安军 申请(专利权)人: 北京中星微电子有限公司
主分类号: H04N5/243 分类号: H04N5/243;H04N7/18
代理公司: 北京亿腾知识产权代理事务所 代理人: 陈 霁
地址: 100083北京市*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 分块 曝光 方法 及其 装置
【权利要求书】:

1.一种分块曝光的方法,包括如下步骤:

将图像传感器在逻辑上分为若干分块,每个分块都具有自己独立的 曝光控制参数;

图像传感器的各分块根据自己独立的曝光控制参数进行曝光以生 成一帧图像所对应的分块图像;

计算各个分块图像的均值亮度;

将各个分块图像的均值亮度分别与预先设定的亮度目标值进行比 较,并根据比较的结果调整各个分块的曝光控制参数;

根据所述调整后的各个分块的曝光控制参数,对后一帧图像的各个 分块进行曝光控制;

所述方法还包括如下步骤:

对分块曝光后产生的边界效应,采用颜色分块效应处理进行消除;

其中,所述消除边界分块效应步骤,分如下两步进行:

首先进行全局亮度映射,

Eq(x,y)=exp(1NΣx,ylog(δ+E(x,y)))]]>

然后对局部像素进行调整,

Ej(x,y)=Eq(x,y)(1+Eq(x,y)Emax)1+Eq(x,y)]]>

最终得到合适的亮度图像,

其中,δ为调整量,其值为很小的正数,E(x,y)为像素点(x,y)的亮度 值,N为分块数,Eq(x,y)为全局亮度在像素点(x,y)的映射亮度值,以及最 大映射亮度值Emax=max{Eq(x,y)},Ej(x,y)为像素点(x,y)调整后的像素点亮 度值。

2.如权利要求1所述分块曝光的方法,其特征在于:

所述亮度比较步骤中预先设定的亮度目标值,其取值范围为 [100,150]。

3.权利要求1至2任一项所述分块曝光的方法,其特征在于:

所述图像传感器进行逻辑上的分块步骤中的分块数不低于3*3,不 高于25*16。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京中星微电子有限公司,未经北京中星微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810240541.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top