[发明专利]新真空低压离子渗碳炉无效
| 申请号： | 200810242810.2 | 申请日： | 2008-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN101497981A | 公开（公告）日： | 2009-08-05 |
| 发明（设计）人： | 顾啸强 | 申请（专利权）人： | 苏州市万泰真空炉研究所有限公司 |
| 主分类号： | C23C8/36 | 分类号： | C23C8/36 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215200江苏省吴江市吴江松陵*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 真空 低压 离子 渗碳 | ||
【权利要求书】：
本新型三室炉体由气淬室、加热室、油淬出料室、真空泵组组成。加热室 两端都有隔热门，真空泵组分三个管道通往三室，且都装有密封调节阀可选择 抽真空的炉室。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州市万泰真空炉研究所有限公司，未经苏州市万泰真空炉研究所有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810242810.2/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：高真空溶盐炉TD处理
- 下一篇：新式耐高温球铁炉用物
- 同类专利
- 专利分类
