[发明专利]一种光谱标准配制方法无效
申请号: | 200810247481.0 | 申请日: | 2008-12-31 |
公开(公告)号: | CN101769833A | 公开(公告)日: | 2010-07-07 |
发明(设计)人: | 钱伯仁;潘元海;王长华;墨淑敏 | 申请(专利权)人: | 北京有色金属研究总院 |
主分类号: | G01N1/28 | 分类号: | G01N1/28;G01N21/17 |
代理公司: | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人: | 程凤儒 |
地址: | 10008*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光谱 标准 配制 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种新的光谱标准配制方法。
背景技术
W-Co-Cr合金是一种新品类的合金,其特点是以难熔金属W为基体加入中等挥发的金属Co和Cr,而且其加入量还会因为需要而改变。这样,光谱标准的配制和选择就比较复杂,几乎无法进行。用ICP-AES分析又遇到溶液转移和主体干扰及浓溶液的雾化问题。
发明内容
本发明的目的是提供一种新的光谱标准配制方法,主要用于W-Co-Cr类合金中杂质的光谱分析。
为实现上述目的,本发明采取以下技术方案:
一种光谱标准配制方法,该方法包括以下步骤:
(1)确定所要待分析的样品中金属杂质,根据所要分析的样品中金属杂质制备碳标,以纯碳粉为基体,以碳标中所含各金属杂质元素计算,向其中加入相应各金属杂质元素氧化物,配制各金属杂质含量为1wt%的主标准点,然后用纯碳粉依次冲稀为0.1~0.0001wt%中的若干个不同的金属杂质含量,得到一系列碳标;根据所分析的样品不同,将主标准点冲稀到0.1~0.0001wt%中的若干个不同的金属杂质含量。
(2)将所要分析的样品分别与步骤(1)中的一系列碳标按重量比1∶1混合,制得一系列样品标准。
所述的待分析的样品为W-Co-Cr类合金,该类合金中的杂质为Si、Mn、Mg、Fe、Ni、Ca、Al、Ti、Mo、V中的一种或多种。
在本发明的一种光谱标准配制方法中,所述一系列碳标可以是用纯碳粉将1wt%的主标准点依次冲稀为0.05wt%、0.01wt%、0.005wt%、0.001wt%。
一种W-Co-Cr类合金中杂质的光谱分析方法,该方法包括以下步骤:
(1)首先要确定所要分析的W-Co-Cr类合金中金属杂质,该类合金中的杂质为Si、Mn、Mg、Fe、Ni、Ca、Al、Ti、Mo、V中的一种或多种,根据上述W-Co-Cr类合金中金属杂质制备碳标,以纯碳粉为基体,以碳标中所含各金属杂质元素计算,向其中加入相应各金属杂质元素氧化物,配制碳标中所含每一种金属杂质元素为1wt%的主标准点,然后用纯碳粉依次冲稀为0.05~0.001wt%中的若干个不同的金属杂质含量,得到一系列碳标;
所述一系列碳标可以是用纯碳粉将1wt%的主标准点依次冲稀为0.05wt%、0.01wt%、0.005wt%、0.001wt%。
(2)将所要分析的W-Co-Cr类合金分别与步骤(1)中的一系列碳标按重量比1∶1混合,制得一系列样品标准;并将所要分析的W-Co-Cr类合金与纯碳粉按重量比为1∶1混合,得到样品空白;
(3)对步骤(2)中所得一系列样品标准和样品空白进行摄谱;
(4)试验选择分析线,测量分析线的黑度S,用S-logC绘制工作曲线,其中,C为样品标准和样品空白中的杂质含量值;
(5)用直线拉直法与计算法确定分析结果,用直线拉直法分析低含量元素,用计算法估算较高含量杂质,该计算法通过公式C0=I0Ci/(Ii+0-I0)进行分析,其中C0为样品标准中所加样品的杂质含量,Ii+0、I0为与Ci+0、C0对应的谱线强度,Ci+0为样品标准中杂质的含量;求出的3个C0取平均值作为样品标准中所加样品的杂质含量的估计值,将与S0及Ci+0与Si+0点入S-logC坐标中绘制工作曲线,其中S0、Si+0分别由I0、Ii+0求对数得到,工作曲线上对应样品空白黑度S的C即为分析值。
在所述步骤(3)中,所述的样品标准和样品空白均需磨成粉末混合均匀后进行摄谱。
本发明中,能直接用直线拉直法进行分析的为低含量元素,不能直接用直线拉直法分析的杂质含量较高,用计算法进行分析。也就是说,先用直线拉直法进行分析,能够用直线拉直法分析的杂质为低含量杂质元素;用直线拉直法进行分析比较麻烦,或用直线拉直法无法进行分析的杂质元素为较高含量元素,可以再用计算法进行分析。直线拉直法和计算法的具体操作参照“易挥发主体中的微量杂质的光谱分析法”(申请号:200410069321.3)中的说明。
本发明的优点是:
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