[发明专利]取向膜摩擦工艺及设备有效

专利信息
申请号: 200810247543.8 申请日: 2008-12-30
公开(公告)号: CN101770115A 公开(公告)日: 2010-07-07
发明(设计)人: 车春城 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100176北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 取向 摩擦 工艺 设备
【权利要求书】:

1.一种取向膜摩擦工艺,其特征在于,包括:

在固定装置上固定涂敷有用于形成取向膜的薄膜的基板,在承载装置上承载摩擦布,所述基板与摩擦布表面之间为平行相对的状态;

该工艺还包括:

(1)在所述摩擦布与所述基板之间形成沿基板表面的方向的相对运动;

(2)在所述薄膜与所述摩擦布的平整表面之间形成面接触;

(3)分离所述薄膜与所述摩擦布的平整表面。

2.根据权利要求1所述的取向膜摩擦工艺,其特征在于,在(2)之前,该工艺还包括:

调整所述基板的侧边与所述相对运动方向的夹角。

3.根据权利要求1所述的取向膜摩擦工艺,其特征在于,

所述(1)为:驱动所述承载装置使得摩擦布沿基板表面的方向运动;

所述(2)为:移动所述固定装置使得所述薄膜与所述摩擦布的平整表面相接触;

所述(3)为:移动所述固定装置使得所述薄膜与所述摩擦布的平整表面相分离;或者

所述(1)为:驱动所述固定装置使得基板沿基板表面的方向运动;

所述(2)为:移动所述承载装置使得所述摩擦布的平整表面与所述薄膜相接触;

所述(3)为:移动所述承载装置使得所述摩擦布的平整表面与所述薄膜相分离。

4.根据权利要求1所述的取向膜摩擦工艺,其特征在于,所述在固定装置上固定涂敷有用于形成取向膜的薄膜的基板为:在设有真空吸附结构的第一基台上固定涂敷有用于形成取向膜的薄膜的基板。

5.根据权利要求1所述的取向膜摩擦工艺,其特征在于,在承载装置上承载摩擦布为:在第二基台的台面上贴附表面平整的摩擦布。

6.根据权利要求1所述的取向膜摩擦工艺,其特征在于,在承载装置上承载摩擦布为:在两个转辊上缠绕摩擦布;所述(1)为:驱动其中一个转辊转动带动所述摩擦布运动使得摩擦布形成紧边和松边,所述摩擦布的平整表面为所述紧边。

7.根据权利要求6所述的取向膜摩擦工艺,其特征在于,该工艺还包括:在所述紧边和松边之间设置抵触板,并且所述抵触板抵触到所述紧边。

8.根据权利要求6所述的取向膜摩擦工艺,其特征在于,该工艺还包括:在所述紧边和松边之间还设置至少一个转辊,并且所述至少一个转辊抵触到所述紧边和松边。

9.一种取向膜摩擦设备,其特征在于,包括:

承载装置,用于承载摩擦布;

固定装置,用于固定涂敷有用于形成取向膜的薄膜的基板,所述基板与摩擦布表面之间为平行相对的状态;

动力系统,用于在所述摩擦布与所述基板之间形成沿基板表面的方向的相对运动;该动力系统还用于在所述薄膜与所述摩擦布的平整表面之间形成面接触,并分离所述薄膜与所述摩擦布的平整表面。

10.根据权利要求9所述的取向膜摩擦设备,其特征在于,该设备还包括:

调整装置,用于调整所述基板的侧边与所述相对运动方向的夹角。

11.根据权利要求9所述的取向膜摩擦设备,其特征在于,所述动力系统包括:

第一动力装置,用于驱动所述承载装置使得摩擦布沿基板表面的方向运动;第二动力装置,用于移动所述固定装置使得所述薄膜与所述摩擦布的平整表面相接触;该第二动力装置还用于移动所述固定装置使得所述薄膜与所述摩擦布的平整表面相分离;或者

第三动力装置,用于驱动所述固定装置使得基板沿基板表面的方向运动;

第四动力装置,用于移动所述承载装置使得所述薄膜与所述摩擦布的平整表面相接触;该第四动力装置还用于移动所述承载装置使得所述薄膜与所述摩擦布的平整表面相分离。

12.根据权利要求9所述的取向膜摩擦设备,其特征在于,所述固定装置为设有真空吸附结构的第一基台。

13.根据权利要求9所述的取向膜摩擦设备,其特征在于,所述承载装置为第二基台,所述摩擦布贴附在第二基台的台面上形成摩擦布的平整表面。

14.根据权利要求11所述的取向膜摩擦设备,其特征在于,所述承载装置包括两个转辊,所述摩擦布缠绕在所述两个转辊上,所述第一动力装置通过驱动其中一个转辊转动带动所述摩擦布运动使得摩擦布形成紧边和松边,所述摩擦布的平整表面为所述紧边。

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