[发明专利]光学镀膜装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于镀膜的光学镀膜装置。

背景技术

目前，光学薄膜广泛应用于光学仪器，如传感器、半导体镭射、干涉仪、眼镜以及光纤 通讯组件等很多领域。光学薄膜通常是通过干涉作用而达到其预期效果，即在光学组件或独 立基板上镀上一层或多层的介电质膜或金属膜来改变光波传输特性。

目前，光学薄膜制作通常以物理蒸镀法为主，该方法为将薄膜材料由固态转化为气态或 离子态，气态或离子态的材料由蒸发源穿越空间，抵达基板表面，材料抵达基板表面后，将 沉积而逐渐形成薄膜。通常，为了制作高纯度的薄膜，镀膜的制程须于高真空环境下完成。 由此延伸出真空镀膜，一般做法为将基片以超音波洗净机洗净，洗净后排上夹具，送入镀膜 机，进行加热及抽真空。达到高真空后，开始镀膜。镀膜时，以电子枪或电阻式加热，将薄 膜材料变成离子态，镀膜时间则视层数及程序不同而有长短。镀膜完毕后，待温度冷却后取 出。

在现有的光学镀膜设备中，通常会使用如图1中的伞状结构的基板承载架2来承载基板3 ，所述基板承载架2利用螺丝固定在转轴4上。每次镀膜完成后，均需将基板承载架2及基板 3从转轴4上拆下，进行清洗。镀膜时，再将基板3装于所述基板承载架2上，并通过螺丝将所 述基板承载架2固定在所述转轴4上。

然而每次将述基板承载架2通过螺丝固定在所述转轴4上，均不会与上次的位置完全一样 ，会有一定的误差，这种误差往往造成镀膜时，所述基板承载架2与蒸发源5的相对几何位置 出现偏差，从而产生镀膜的不良率上升的问题。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种可以进行调整的光学镀膜装置。

一种光学镀膜装置，所述光学镀膜装置包括转动轴及多个基板，所述多个基板一端与所 述转动轴铰接，所述多个基板以转动轴为中心呈伞状分布，所述光学镀膜装置还包括一个连 接于所述转动轴与基板之间的倾角调整装置，所述倾角调整装置包括角度调整件、第一转动 件及第二转动件，所述第一转动件及所述第二转动件相铰接，所述角度调整件通过改变所述 第一转动件及所述第二转动件之间的角度，改变所述多个基板相对所述转动轴的倾斜角度。

本发明所提供的光学镀膜装置，可以通过调整倾角调整装置来调整所述基板相对所述转 动轴的倾斜角度，从而校正每次固定时基板相对蒸发源的偏差，以此提高镀膜的良率。

附图说明

图1是现有技术提供的光学镀膜装置及蒸发源的示意图。

图2是本发明第一实施方式提供的光学镀膜装置及蒸发源的示意图。

图3是本发明第一实施方式提供的倾角调整装置的示意图。

图4是沿图2中III-III线所得的剖示图。

图5是本发明第二实施方式提供的光学镀膜装置的剖示图。

图6是本发明第三实施方式提供的光学镀膜装置的剖示图。

具体实施方式

下面将结合附图，对本发明作进一步的详细说明。

请参阅图2、图3及图4，本发明第一实施方式提供了一种光学镀膜装置10。该光学镀膜 装置10包括转动轴100、多个基板200、第一连接件310、第二连接件320及倾角调整装置330 。

所述转动轴100用于转动所述多个基板200。所述每个基板200大体为扇形，所述每个基 板200具有多个用于容置镜片的通孔210a。所述每个基板200设有一小端211，所述小端211与 所述转动轴100铰接，并且所述每个基板200以转动轴100为中心呈伞状分布。

所述倾角调整装置330通过第一连接件310及第二连接件320连接于所述转动轴100与基板 200之间，所述倾角调整装置330用于调整所述每个基板200相对于所述转动轴100的倾斜角度 。从而调整基板200上各点相对蒸发源9的相对位置。本实施方式中，所述倾角调整装置330 包括角度调整件331、第一转动件332及第二转动件333。所述角度调整件331用于改变所述第 一转动件332及所述第二转动件333之间的角度。所述倾角调整装置330采用精密刻度式角度 规。所述角度调整件331为微调旋钮，所述第一转动件332及第二转动件333呈杆状。所述第 一转动件332的两端为第一铰接部332a及第一固连部332b，所述第二转动件333的两端为第二 铰接部333a及第二固连部333b，所述第一铰接部332a与所述第二铰接部333a相铰接。