[发明专利]金属探测装置及方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种金属探测装置及方法。

背景技术

产品中的金属零部件是否安装到位，对该产品的品质有着很大的影响，因此，对金属零部件的检测，是检验产品是否符合工程标准的重要环节，对于批量生产的产品，如果手动地去检测，会耗费大量的时间和人力。目前市场上有探测金属的专用器件，如金属接近开关，但其价格比较昂贵，给生产厂商带来了较大的额外成本。

发明内容

鉴于以上内容，有必要提供一种成本较低的金属探测装置及方法。

一种金属探测装置，包括依次相连的一探测电路、一电流产生电路、一调节电路及一微处理器，所述探测电路包括一探测元件，所述探测元件为一电感；所述电流产生电路为一型号为TDA0161的集成芯片，用于产生一交流信号，所述探测元件连接于集成芯片的两个检测端之间，集成芯片的输出端与所述调节电路相连；所述调节电路包括一第一电阻及一比较器，所述第一电阻的一端连接所述电流产生电路，另一端连接所述比较器的一第一输入端，所述第一电阻用于将所述电流产生电路的交流信号转换为电压信号输出给所述比较器的第一输入端，所述比较器的一第二输入端通过一第二电阻接地，所述比较器通过比较其第一、第二输入端的电压信号，产生脉冲信号；所述微处理器内预存有一基准频率值，所述微处理器通过其一计数端接收所述脉冲信号，当所述探测元件靠近金属时，所述交流信号的频率发生改变，进而改变所述微处理器接收脉冲信号的频率，所述微处理器通过比较其接收到的脉冲信号的频率值与所述预存的基准频率值，以判断所述探测元件是否探测到金属以及所述金属与探测元件的距离，所述微处理器的一I/O端口还通过一发光二极管连接一电源，当所述微处理器接收脉冲信号的频率改变时，所述微处理器的I/O端输出一电平信号控制所述发光二极管导通发光，以指示所述探测元件探测到金属。

一种应用于上述金属探测装置的金属探测方法，包括以下步骤：

所述探测元件探测一预定距离的固定成分的第一金属，使所述电流产生电路产生一第一交流信号；

所述调节电路将所述第一交流信号转换为第一脉冲信号并传送给所述微处理器；

所述微处理器存储所接收到的第一脉冲信号的频率作为基准频率；

所述探测元件探测一与所述第一金属具有同样成分的第二金属，使所述电流产生电路产生一第二交流信号；

所述调节电路将所述第二交流信号转换为第二脉冲信号并传送给所述微处理器；

所述微处理器比较所述第二脉冲信号的频率与基准频率的大小，若所述第二脉冲信号的频率大于所述基准频率，则所述第二金属与探测元件的距离小于所述第一金属与探测元件的距离，若所述第二脉冲信号的频率小于所述基准频率，则所述第二金属与探测元件的距离大于所述第一金属与探测元件的距离，若所述第二脉冲信号的频率等于所述基准频率，则所述第二金属与探测元件的距离等于所述第一金属与探测元件的距离。

所述金属探测装置及方法通过微处理器侦测电流产生电路输出电流的频率的变化，实现了对金属的探测，还可在所述微处理器中预设基准频率，通过比较其接收脉冲信号的频率与所述基准频率，实现了对金属所在位置的判断。

附图说明

下面结合附图及较佳实施方式对本发明作进一步详细描述：

图1是本发明金属探测装置较佳实施方式的模块图。

图2是本发明金属探测装置较佳实施方式的电路图。

图3是本发明金属探测方法的流程图。

具体实施方式

请参照图1，本发明金属探测装置的较佳实施方式包括顺序相连的一探测电路10、一电流产生电路20、一调节电路30及一微处理器40。