[发明专利]壳体的表面处理方法

权利要求书

1.一种对壳体进行表面处理的方法，其包括如下步骤：

提供一基体，该基体为大马士革钢基体；

使用无机酸或无机盐类溶液对该基体进行腐蚀处理，使基体表面呈现出花纹效果。

2.如权利要求1所述的对壳体进行表面处理的方法，其特征在于：所述无机酸溶液为硫酸溶液，其中硫酸的体积百分比为8～12％。

3.如权利要求2所述的对壳体进行表面处理的方法，其特征在于：所述硫酸溶液的温度为60～70℃，腐蚀时间为30～480秒钟。

4.如权利要求1所述的对壳体进行表面处理的方法，其特征在于：所述无机酸溶液为含硝酸与盐酸的混合溶液，其中硝酸的质量百分比为10～12％，盐酸的质量百分比为5～6％，对基体进行腐蚀的时间为30～300秒钟。

5.如权利要求1所述的对壳体进行表面处理的方法，其特征在于：所述无机盐溶液为含氯化铁的溶液，其中氯化铁的质量百分比为0.7～1.0％。

6.如权利要求5所述的对壳体进行表面处理的方法，其特征在于：所述无机盐溶液中还含有盐酸及乙醇，其中盐酸的质量百分比为5.2～6.7％，乙醇的质量百分比为36～38％，对基体进行腐蚀的时间为30～300秒钟。

7.如权利要求1所述的对壳体进行表面处理的方法，其特征在于：所述基体为奥氏体大马士革钢基体。

8.如权利要求1所述的对壳体进行表面处理的方法，其特征在于：所述腐蚀处理前对基体进行电化学抛光处理，该电化学抛光所用电解液为含硫酸铵的水溶液，其中硫酸铵的质量百分比为3～8％，抛光时间为60～120秒钟。

9.如权利要求8所述的对壳体进行表面处理的方法，其特征在于：所述电化学抛光后腐蚀前对基体进行机械精抛处理。

10.如权利要求1所述的对壳体进行表面处理的方法，其特征在于：所述腐蚀处理后对基体进行再次电化学抛光处理，该再次电化学抛光所用电解液为含硫酸铵的水溶液，其中硫酸铵的质量百分比为3～8％，抛光时间为10～15秒钟。

11.如权利要求10所述的对壳体进行表面处理的方法，其特征在于：所述再次电化学抛光后对所述基体进行真空镀膜处理，该真空镀膜用金属为钛或铬，在基体表面形成的钛或铬金属层的厚度在1～2μm之间。