[发明专利]壳体及其制作方法无效
| 申请号： | 200810305310.9 | 申请日： | 2008-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN101730415A | 公开（公告）日： | 2010-06-09 |
| 发明（设计）人： | 戴丰源;罗勇达;姜传华;韩婧;张保申;严琦琦;刘伟;乔勇 | 申请（专利权）人： | 深圳富泰宏精密工业有限公司 |
| 主分类号： | H05K5/00 | 分类号： | H05K5/00;C25D11/00;C25D11/02;B32B15/04;B44C1/22 |
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| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 壳体 及其 制作方法 | ||
1.一种壳体，其包括一金属基体及一形成于金属基体上的微弧氧化膜层，其特征在于：所述微弧氧化膜层表面形成有具镜面效果的区域，在该具镜面效果的区域内蚀刻有凹槽。
2.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述金属基体的材料为铝、铝合金、镁、镁合金、钛及钛合金中的任一种。
3.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述微弧氧化膜层表面具镜面效果的区域经由机械抛光的方法形成。
4.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述凹槽由激光蚀刻的方式形成。
5.一种壳体的制作方法，其包括如下步骤：
提供一金属基体；
对该金属基体进行微弧氧化处理以在其表面形成一微弧氧化膜层；
对该微弧氧化膜层进行抛光处理；
在抛光后的微弧氧化膜层上蚀刻凹槽。
6.如权利要求5所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述微弧氧化处理在电解液中进行，该电解液中含有氢氧化物、磷酸盐、硼酸盐、硅酸盐及铝酸盐中的一种或几种。
7.如权利要求6所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述电解液中含有钨酸盐，钒酸盐，硫酸盐，氟化钠、乙酸钴、山梨醇及甘油中的一种或几种。
8.如权利要求7所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述电解液的pH值为10.5～12.5。
9.如权利要求5所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述微弧氧化处理采用正负双向脉冲电压，其中最大恒定正电压为450V～650V，最大恒定负电压为30V～200V，正负向脉宽为1000～10000μs，脉间为300～2000μs。
10.如权利要求5所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述对微弧氧化膜层进行抛光处理的方法为机械抛光，其包括粗抛光、中抛光及精抛光步骤。
11.如权利要求5所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述蚀刻凹槽的方式为激光蚀刻。
12.如权利要求5所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述金属基体的材料为铝、铝合金、镁、镁合金、钛及钛合金中的任一种。
13.如权利要求5所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述微弧氧化处理前对所述金属基体进行除污清洗处理。
14.如权利要求5所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述在抛光后的微弧氧化膜层上蚀刻凹槽后对该微弧氧化膜层进行封孔处理。
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