[实用新型]可发光辅助校准的定位装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种晶圆制程的定位装置，尤其涉及一种可发光辅助校准的定位装置。

背景技术

传统应用于晶圆制程的定位装置(例如中国台湾申请案号第5210816号专利)，是如图1及图2所示，其于一机台71上设置一反应室壁72，于该反应室壁72内再设一工作承座73；该工作承座73上则设一定位结构74；该定位结构74用以固定一晶圆75，该晶圆75上具有一晶圆定位标记751。

传统定位装置存在如下缺点：

1、无辅助背光的标号设计定位较不准确。如图2所示，传统定位装置可能以可程序控制机械手臂76移动该晶圆75至该定位结构74的预定位置，其上再放置一光罩77，并通过一影像处理装置(图中未示)来判断该光罩77上的光罩定位标记771与该晶圆75上的晶圆定位标记751是否对齐，一旦完全对齐时，才算是定位完毕，否则需要进行位置的微调。由于该晶圆75下方并无光源来辅助照明，因此，影像处理装置于定位过程中进行取像时，取得的影像较暗，处理时的失误机率较高，故，定位较不准确。

2、工作气体供应部相当复杂。传统定位装置需于机台上设置反应室壁，而工作承座则设于该反应室壁内，当需要于预定气体(例如氮气)中进行作业以避免氧化时，工作承座/定位结构本体并无法放出预定气体，必需由机台上的工作气体供应部放出预定气体，并使工作气体充满于反应室壁内，才能进行作业，这样的设计，工作承座与反应室壁间必有预定距离，欲使预定气体散布于工作承座旁，则需大量的预定气体(气体会消散，相当浪费)，且机台上另设反应室壁及工作气体供应部则使装置复杂化。

因此，有必要研发新技术以解决上述缺点。

实用新型内容

本实用新型所要解决的主要技术问题在于，克服现有技术存在的上述缺陷，而提供一种可发光辅助校准的定位装置，其具有辅助背光的标号设计定位较准确，使定位结构与工作气体供应部合一结构简单，其真空吸引部使工件可轻易定位。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种可发光辅助校准的定位装置，其特征在于包括：一机台；一工作承座，设于该机台上；一定位结构，设于该工作承座上；该定位结构具有一第一面及一第二面；至少一发光部，设于该定位结构上，其可朝该第二面的方向发光；一真空吸引部，设于该定位结构上，其包括：一吸引槽道，内凹分布于该定位结构的第二面上；一第一气孔，开设于该定位结构的第二面上，且连通该吸引槽道；一第二气孔，开设于该定位结构的第一面上；一通气道，设于该定位结构内部，且连通该第一气孔及该第二气孔，借此，使该真空吸引部产生预定吸引力；一工作气体供应部，设于该定位结构内部，其包括：多个第三气孔，开设于该定位结构的第二面上，且大体围绕于该吸引槽道外周；一第四气孔，开设于该定位结构的第一面上，且连通该多个第三气孔，借此，使该工作气体供应部可发出预定气体以围绕该吸引槽道。

前述的可发光辅助校准的定位装置，其中真空吸引部又包括一真空产生装置，该真空产生装置连通该第二气孔；所述工作气体供应部又包括一气压源，该气压源连通该第四气孔。

前述的可发光辅助校准的定位装置，其中定位结构的第二面用以设置一第一工件，该第一工件至少具有一可辅助背光的第一标号，该第一标号对准该发光部发出的光线而呈辅助背光状；所述真空产生装置产生一吸力，并经该通气道、该第一气孔，而通过该吸引槽道吸引该第一工件，使该第一工件附着于该定位结构的第二面；借此，使一第二工件可于该第一工件上移动，该第二工件上对应该第一标号而具有至少一个可辅助背光的第二标号，借该发光部的光线，使呈辅助背光状的第二、第一标号易于对准，使第一、第二工件达到校准定位；所述气压源经该第四气孔而朝该第三气孔输出预定气体；使被吸附于该吸引槽道上的第一、第二工件于该预定气体中进行作业；所述预定气体为氮气。

前述的可发光辅助校准的定位装置，其中定位结构由一第一结构及一第二结构组成；所述发光部、所述真空吸引部与所述工作气体供应部分别设置于该第一、第二结构上；所述工作气体供应部包括：多个上气道，对应该多个第三气孔而设于该定位结构内部；多个中气道，对应该上气道而设于该定位结构内部；多个下气道，对应该中气道而设于该定位结构内部；又，该第四气孔连通该多个下气道。

前述的可发光辅助校准的定位装置，其中发光部设多个。

本实用新型的有益效果是，其具有辅助背光的标号设计定位较准确，使定位结构与工作气体供应部合一结构简单，其真空吸引部使工件可轻易定位。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。