[实用新型]双面曝光机的对位调整装置有效

专利信息
申请号: 200820002804.5 申请日: 2008-02-18
公开(公告)号: CN201171248Y 公开(公告)日: 2008-12-24
发明(设计)人: 张鸿明 申请(专利权)人: 川宝科技股份有限公司
主分类号: H05K3/00 分类号: H05K3/00;H05K3/06
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 代理人: 寿宁;张华辉
地址: 中国台湾桃园县*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 双面 曝光 对位 调整 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种双面曝光机的对位调整装置,特别是涉及一种以三个动力源进行印刷电路的曝光对位的双面曝光机的对位调整装置。

背景技术

由于印刷电路板在发展的演进上,朝向轻薄的路线发展下,不断的将电路板的面积变小,重量变的更轻,也倒置于在电路板于双面曝光的工艺中越显的难度提高,特别是在半自动曝光机台上,由于双面曝光机的对位常会因为精准度不够的问题,让很多的印刷电路板无法使用而报废,使生厂商增加更多的生产成本,由于半自动机台需要较多的人力是故生产效能也是一门很重要的课题,以往在对位上都是将成对的对位销穿设于电路板的对位孔,并依据CCD摄影机所撷取的对位影像,控制对位销移动而带动电路板,进行电路板与上、下底片间的对位工作;然而,对位装置的成对的对位销,用以移动欲曝光的印刷电路板,但是由于结构过于庞大控制系统过于复杂,此外在生产机台上的成本过高,也会造成维修不便的问题,此外在对位的精准度上也一直难以提升,此时若能提供一个能降低生产成本又能提高对位精准度的双面曝光机,实为一刻不容缓的议题。

由此可见,上述现有的双面曝光机的对位调整装置在结构与使用上,显然仍存在有不便与缺陷,而亟待加以进一步改进。为了解决上述存在的问题,相关厂商莫不费尽心思来谋求解决之道,但长久以来一直未见适用的设计被发展完成,而一般产品又没有适切结构能够解决上述问题,此显然是相关业者急欲解决的问题。因此如何能创设一种新型结构的双面曝光机的对位调整装置,实属当前重要研发课题之一,亦成为当前业界极需改进的目标。

有鉴于上述现有的双面曝光机的对位调整装置存在的缺陷,本发明人基于从事此类产品设计制造多年丰富的实务经验及专业知识,并配合学理的运用,积极加以研究创新,以期创设一种新型结构的双面曝光机的对位调整装置,能够改进一般现有的双面曝光机的对位调整装置,使其更具有实用性。经过不断的研究、设计,并经过反复试作样品及改进后,终于创设出确具实用价值的本实用新型。

发明内容

本实用新型的主要目的在于,克服现有的双面曝光机的对位调整装置存在的控制系统较为复杂与庞大的缺陷,而提供一种新型结构的双面曝光机的对位调整装置,所要解决的技术问题是使其可以调动一曝光物至曝光定位,且具有控制系统简单化的功效,借由这样的装置能提高对位的精准度以及简化维修的问题,非常适于实用。

本实用新型的目的及解决其技术问题是采用以下的技术方案来实现的。依据本实用新型提出的双面曝光机的对位调整装置,设于印刷电路曝光机的一固定座上,调动一曝光物至曝光定位,该双向对位装置至少包含:一第一微动承座,设于该固定座上,且该第一微动承座自底部至顶部,依序叠置设有一第一Y向滑动单元、一第一X向滑动单元、以及一第一θz向转盘;一第一动力源,搭载于该固定座上,且连接于该第一Y向滑动单元,以驱动该第一Y向滑动单元沿Y方向滑动;一第二微动承座,设于该固定座上,且该第二微动承座自底部至顶部,依序叠置设有一第二X向滑动单元、一第二Y向滑动单元、以及一第二θz向转盘;一第二动力源,搭载于该第二X向滑动单元的一侧,且连接于该第二Y向滑动单元,以驱动该第二Y向滑动单元沿Y方向滑动;一第三动力源,搭载于该固定座上,且连接于该第二X向滑动单元,以驱动该第二X向滑动单元沿X方向滑动;以及一微动平板,枢设于该第一θz向转盘与该第二θz向转盘上,用以放置该曝光物。

本实用新型的目的及解决其技术问题还可以可采用以下的技术措施来进一步实现。

前述的双面曝光机的对位调整装置,其中所述的第一Y向滑动单元由一第一Y向滑块滑动嵌合于一第一Y向滑轨内所构成。

前述的双面曝光机的对位调整装置,其中所述的第一动力源为一步进马达,借由一螺杆驱动该第一Y向滑块沿着该第一Y向滑轨内滑动。

前述的双面曝光机的对位调整装置,其中所述的第一X向滑动单元由一第一X向滑块滑动嵌合于一第一X向滑轨内所构成。

前述的双面曝光机的对位调整装置,其中所述的第二X向滑动单元由一第二X向滑块滑动嵌合于一第二X向滑轨内所构成。

前述的双面曝光机的对位调整装置,其中所述的第二Y向滑动单元由一第二Y向滑块滑动嵌合于一第二Y向滑轨内所构成。

前述的双面曝光机的对位调整装置,其中所述的第二动力源为一步进马达,借由一螺杆驱动该第二Y向滑块沿着该第二Y向滑轨内滑动。

前述的双面曝光机的对位调整装置,其中所述的第三动力源为一步进马达,借由一螺杆驱动该第二X向滑块沿着该第二X向滑轨内滑动。

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