[实用新型]具防呆装置的容器

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种容器，特别是指其中所包含的防止错误放置的防呆装置。

背景技术

近代半导体科技发展迅速，其中光学微影技术(Optical Lithography)扮演重要的角色，只要是关于图形(pattern)定义，皆需仰赖光学微影技术。光学微影技术在半导体的应用上，是将设计好的线路制作成具有特定形状可透光的光罩(photo mask)。利用曝光原理，则光源通过光罩投影至硅晶圆(siliconwafer)可曝光显示特定图案。由于任何附着于光罩上的尘埃颗粒(如微粒、粉尘或有机物)都会造成投影成像的质量劣化，用于产生图形的光罩必须保持绝对洁净，因此在一般的晶圆制程中，都提供无尘室(clean room)的环境以避免空气中的颗粒污染。然而，目前的无尘室也无法达到绝对无尘状态。现代的半导体制程皆利用抗污染的光罩盒(reticle pod)进行光罩的保存与运输，以使光罩保持洁净。

现有的光罩盒多以高分子材质所构成，此种高分子材质具有成型容易、价格低廉以及可形成透明体的优点。此种绝缘电阻高的高分子材质容易因为磨擦或拨离而产生静电，尤其是无尘室的作业环境需要保持较低湿度，使高分子材质的光罩盒非常容易产生与累积电荷。光罩表面的静电容易吸引空气中的污染微粒，更甚者还会造成光罩上的金属线出现静电放电(electrostaticdischarge，ESD)效应。静电放电所产生的瞬间电流会引起电花(spark)或电弧(arc)，在电花与电弧发生的同时，强大的电流伴随着高温，导致金属线的氧化与溶解，因而改变了光罩的图案。

目前针对静电放电所解决的方法有许多，首先是改善作业环境，使空气中维持适当的湿度、作业人员穿着具接地效应的衣物或使用离子扇消除环境中的静电。但是改变作业环境的具有许多无法预测的变因，没有办法完全解决静电对光罩的伤害。

另一种方法是改变光罩盒组成元件的材质，美国专利号US6,513,654提出，设置具接地功能的光罩支撑件，在光罩盒与配合机台接触时，光罩支撑件可将光罩上的电荷导出。另外美国专利号US6,247,599提出，在光罩盒的底盘、罩盖或提把上增设导电板，通过此减少电荷的累积。增设导电板的方法已被广为使用，然罩盖与底盘的定位多倚赖螺丝锁固，锁固时的摩擦会产生微粒，形成污染源。

有鉴于以上缺失，本实用新型所提供的光罩盒，乃针对现有技术加以改良。

实用新型内容

本实用新型的主要目的，是提供一种具有防呆装置的容器，其中防呆装置的设计是与容器原有结构结合，可确保容器中各部位的正确放置，避免在使用过程中对容器中的对象造成伤害。

本实用新型的另一目的，是提供一种具有防呆装置的容器，其中防呆装置的设计不需以螺丝锁固，可避免微粒产生，减少污染源。

本实用新型的又一目的，是提供一种具有防呆装置的容器，可以减少电荷累积，并且防止静电对光罩所造成的伤害。

本实用新型的再一目的，是提供一种具有防呆装置的容器，可在无需改变原有容器结构设计的情况下，增设一电荷屏蔽装置。

基于上述的目的，本实用新型首先提供一种容器，其是由一个第一盖体及一个第二盖体组合而成。容器中尚包括一底盘，设置于第二盖体上，与第二盖体形成可容纳对象的空间；第二盖体包含至少一第一防呆装置；底盘包含至少一第二防呆装置；当第二防呆装置与第一防呆装置互相卡合时，底盘与第二盖体的相对位置固定。

本实用新型接着提供一种具防呆装置的容器，其是由一个第一盖体及一个第二盖体组合而成，容器中尚包括一罩盖与一底盘。底盘包含至少一第三防呆装置，罩盖包括一第四防呆装置，当第三防呆装置与第四防呆装置互相卡合时，底盘与罩盖的相对位置固定不移动，底盘与罩盖组合成一可承放对象的空间。

本实用新型进一步提供一种具防呆装置的容器，其是由一个第一盖体及一个第二盖体组合形成一内部区域，容器中尚包括一罩盖，设置于第二盖体上。第二盖体罩盖包含至少一第五防呆装置，罩盖包含至少一第六防呆装置，当第六防呆装置与第五防呆装置互相对应时，罩盖与该二盖体组合成一可承放对象的空间。

本实用新型的有益效果是，除了可以使容器的各部分被放置在正确位置外，并且无须使用螺丝固定，避免微粒产生，减少污染源。当罩盖为导电材质时，更可防止静电对内容物造成伤害。本设计亦可增设使用于目前的光罩盒，无须进行设计上的变更。

附图说明

图1A本实用新型一较佳实施例的容器剖面图；