[实用新型]真空溅镀设备的倾斜式基材载送装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种真空溅镀设备的基材载送装置，特别指一种能使一基材载架呈正面朝上的倾斜摆放状态的真空溅镀设备的倾斜式基材载送装置。

背景技术

真空镀膜技术中的溅镀法(Sputtering)，其原理是在一真空腔体中，通过离子束、等离子或电弧等方式，冲击靶材(Target)表面，使靶材原子飞出，并沉积、附着在呈直立或水平放置的目标基材(Substrate)的表面上，以形成薄膜。

如图1与图2所示，一般真空溅镀设备的基材载送装置1，是用以将待镀膜的基材5移送入一反应腔体3中，让基材5于呈直立放置状态下进行表面镀膜，随后，再将已完成镀膜的基材5移出。

该真空溅镀设备的基材载送装置1包括一设置于该反应腔体3内部的上导引单元11、一设置于该反应腔体3内部的下滚送单元12，以及一可卸载地直立架设于该上导引单元11与该下滚送单元12间的基材载架13。

其中，该基材载架13具有一能载装六片基材5的立架板131、一长向设置于该立架板131顶侧且其开口朝上的滑轨132，以及一长向设置于该立架板131底侧且其断面呈圆形的轨条133。该上导引单元11具有多个直立导杆111，该多根导杆111沿着该基材载架13的滑轨132长向间隔排列，且每根导杆111的底端部是能插卡入该滑轨132中。该下滚送单元12具有多个沿该基材载架13的轨条133长向间隔并列的滚轮121，以及一受一马达(图中未示)驱动且用以驱动该多个滚轮121同向转动的传动皮带122；每一滚轮121具有一呈环凹状的轮槽123，该多个滚轮121的环凹状轮槽123能共同地容纳、制位与支撑该基材载架13的轨条133。

因此，通过该上导引单元11与该下滚送单元12所分别对该基材载架13的滑轨132与轨条133产生的限位与支撑作用，让该基材载架13整体能呈直立状态，而当该下滚送单元12开始动作时，能对该基材载架13的轨条133施予滚送作用，且带动该基材载架13的滑轨132相对该上导引单元11的导杆111产生滑移，以达到输送该基材载架13的目的。

然而，由于该基材载架13的滑轨132与该上导引单元11的导杆111间的嵌插搭配设计，使得该基材载架13于架设时，必须是上下对准且左右不偏倚地缓慢横移入该上导引单元11与该下滚送单元12间，使各个滚轮121、导杆111能分别准确地依序与该轨条133、滑轨132结合。可想而知地，该基材载架13的横向插装定位方式，确实是较为麻烦、不便。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种能有助于增进一基材载架的架设便利性的真空溅镀设备的倾斜式基材载送装置。

本实用新型的真空溅镀设备的倾斜式基材载送装置，设置于该真空溅镀设备的一反应腔体中，并能使一板状的基材载架正面朝上地倾斜移置于该反应腔体内。该倾斜式基材载送装置包括一支撑设置于该基材载架的一底部的下滚送单元，以及一撑抵设置于该基材载架的一背面顶侧处的上滚送单元。

本实用新型所述的真空溅镀设备的倾斜式基材载送装置，该上滚送单元包括多个沿该基材载架的背面顶侧长向间隔排列设置的轮盘组，每一轮盘组具有一固设在该反应腔体的一内壁面上的倾斜台座、一垂直设置于该倾斜台座靠近该基材载架的背面的一侧部上且与该基材载架的背面近呈平行的轮轴，以及一可转动地套设于该轮轴上且其一环状轮面平贴于该基材载架的背面的轮盘。

本实用新型所述的真空溅镀设备的倾斜式基材载送装置，该下滚送单元包括多个沿该基材载架的底部长向间隔排列设置的滚轮，以及一用以驱使该多个滚轮滚动的传动皮带，每一滚轮具有一供该基材载架的底部容置的环凹状轮槽。

本实用新型的功效在于，利用该上滚送单元、下滚送单元的共同配合设计，使一基材载架能迅速、准确且稳定地倾斜摆放定位，所以，具有整体上提高基材载架的装载便利性的功效。

附图说明

图1是一立体图，说明现有一真空溅镀设备的基材载送装置，其一基材载架直立架设于其一上导引单元与一下滚送单元间；

图2是一侧视示意图，说明该真空溅镀设备的基材载送装置设置于一反应腔体中；

图3是一立体图，说明本实用新型真空溅镀设备的倾斜式基材载送装置的一较佳实施例，能供一基材载架正面朝上地倾斜摆放于上；

图4是一侧视示意图，说明该较佳实施例是设置在一真空溅镀设备的一呈倾斜设计的反应腔体中；

图5是一侧视示意图，说明该较佳实施例是设置在一真空溅镀设备的一呈直立设计的反应腔体中。

具体实施方式