[实用新型]薄膜沉积装置

权利要求书

1、一种薄膜沉积装置，所述装置包括箱体、反应室和射频激励源，所述反应室位于所述箱体内部，所述箱体具有气体进入口和气体排出口，其特征在于：所述反应室包括金属上横梁、下横梁和与所述上横梁、下横梁连接的金属侧壁，所述上横梁和下横梁之间具有第一电极板和第二电极板，各所述第一电极板和第二电极板彼此电绝缘且等距、平行、间隔交替排列。

2、根据权利要求1所述的装置，其特征在于：所述第一电极板为激励电极板，所述第二电极板为接地电极板，各所述激励电极板和接地电极板的侧面均为平坦表面，所述射频激励源连接至所述激励电极板。

3、根据权利要求2所述的装置，其特征在于：所述接地电极板直接与所述上横梁和下横梁连接，所述激励电极板通过绝缘部件连接至所述上横梁和下横梁。

4、根据权利要求1所述的装置，其特征在于：所述反应室顶部还包括喷淋板。

5、根据权利要求1所述的装置，其特征在于：所述激励电极板和接地电极板的上、下端部具有卡固部件，用于卡固需要沉积薄膜的基板。

6、根据权利要求5所述的装置，其特征在于：所述卡固部件为卡槽或滚轮。

7、根据权利要求1所述的装置，其特征在于：所述第一电极板和第二电极板之间的距离为10～50mm。

8、根据权利要求2所述的装置，其特征在于：所述激励电极板的数量为大于或等于4的整数。

9、根据权利要求2所述的装置，其特征在于：各所述激励电极板两侧均具有所述接地电极板。

10、根据权利要求1或9所述的装置，其特征在于：所述侧壁为接地电极板。