[实用新型]涂胶显影设备的工艺墙框架有效
| 申请号： | 200820013644.4 | 申请日： | 2008-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN201226079Y | 公开（公告）日： | 2009-04-22 |
| 发明（设计）人： | 魏猛 | 申请（专利权）人： | 沈阳芯源微电子设备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/26 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 | 代理人： | 许宗富;周秀梅 |
| 地址： | 110168辽宁*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 涂胶 显影 设备 工艺 框架 | ||
【权利要求书】：
1、一种涂胶显影设备的工艺墙框架，其特征在于：它是由多个型材构成的立体框架结构，顶架上置有顶板，底架两长边中间安装有底板，顶板和底板之间固定有中间立柱，在中间立柱两侧为对称结构的工艺单元框架模块，所述工艺单元框架模块的结构：是在工艺墙框架顶架和底架的两长边间分别安装有侧柱，两边框立柱及两侧柱上分别安装有侧板，两侧柱上并列安装有多个弧型板，相邻弧型板形成的空间构成晶片进出口，对应每个弧型板在两边框立柱及两侧柱上安装有滑道，该滑道延伸至弧型板的直线段，整个框架形成多个相同空间。
2、按权利要求1所述的涂胶显影设备的工艺墙框架，其特征在于：在所述工艺墙框架底架两侧长边型材上安装有随动轴承，与涂胶显影设备整机框架上用于安装工艺墙框架的滑道相配合。
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