[实用新型]大容积陶瓷真空室有效
| 申请号： | 200820028714.3 | 申请日： | 2008-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN201162032Y | 公开（公告）日： | 2008-12-10 |
| 发明（设计）人： | 张小奇;张军辉;马力祯;何源;赵玉刚;胡振军 | 申请（专利权）人： | 中国科学院近代物理研究所 |
| 主分类号： | C21D10/00 | 分类号： | C21D10/00;C22F3/00;C22C1/02 |
| 代理公司： | 兰州振华专利代理有限责任公司 | 代理人： | 张真 |
| 地址： | 730000*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 容积 陶瓷 真空 | ||
【权利要求书】：
1.一种大容积陶瓷真空室，包括陶瓷管(3)，其特征在于：陶瓷管(3)两端联结有钛管(2)，钛管(2)的端部设有真空法兰(1)。
2.如权利要求1所述的大容积陶瓷真空室，其特征在于：所述的陶瓷管(3)为2-4段，陶瓷管(3)之间采用过渡环(4)相连接。
3.如权利要求1或2所述的大容积陶瓷真空室，其特征在于：所述的钛管(2)与陶瓷管(3)的联结处，钛管(2)的端部为直角翻边，其翻边平面与陶瓷管(3)的端面相联。
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