[实用新型]一种等离子体加工装置无效

专利信息
申请号: 200820029299.3 申请日: 2008-06-06
公开(公告)号: CN201250185Y 公开(公告)日: 2009-06-03
发明(设计)人: 刘卫国;梁海锋;杭凌侠 申请(专利权)人: 西安工业大学
主分类号: C03C23/00 分类号: C03C23/00
代理公司: 西安新思维专利商标事务所有限公司 代理人: 黄秦芳
地址: 710032*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 等离子体 加工 装置
【权利要求书】:

1、一种等离子体加工装置,包括工作室和其内部的电容耦合等离子体发生器(10),所述的电容耦合等离子体发生器(10)包括进气口(1)、射频接头(2)和内套(3),其特征在于:所述的工作室为真空室(9),所述电容耦合等离子体发生器的内套(3)外侧还依次设置有绝缘层(4)和屏蔽层(5),内套(3)、绝缘层(4)和屏蔽层(5)以过盈配合方式连接,在屏蔽层(5)的外侧环设有环形磁铁(8),该环形磁铁(8)通过直线移动机构(7)联接于屏蔽层(5)上。

2、如权利要求1所述的一种等离子体加工装置,其特征在于:所述内套(3)的开口端联接有内小、外大锥形的均匀器(6)。

3、如权利要求1或2所述的一种等离子体加工装置,其特征在于:所述直线移动机构(7)由屏蔽层(5)外侧设置的条状滑槽和嵌设于滑槽内的支架组成,支架与环形磁铁(8)固定联接。

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