[实用新型]一种永磁铁氧体干压磁瓦的上凸模有效
申请号: | 200820037943.1 | 申请日: | 2008-06-06 |
公开(公告)号: | CN201211562Y | 公开(公告)日: | 2009-03-25 |
发明(设计)人: | 胡治中;姚志胜 | 申请(专利权)人: | 安徽龙磁科技股份有限公司 |
主分类号: | B22F3/03 | 分类号: | B22F3/03;H01F41/02 |
代理公司: | 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 | 代理人: | 陈其霞 |
地址: | 231522安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 永磁 铁氧体 干压磁瓦 上凸模 | ||
1、一种水磁铁氧体十压礠瓦的上凸模,包括上凸模基体、强导磁块和弱导磁块,其特征在于:上凸模基体工作面的中心部位内侧镶嵌有强导磁块,上凸模基体工作面的两轴高部的内侧分别镶嵌有弱导磁块,在上凸模基体的工作表面镶嵌有一薄膜层。
2、根据权利要求1所述的永磁铁氧体干压磁瓦的上凸模,其特征在于:强导磁块呈长方形,其长为上凸模基体工作面轴高的0.55~0.65倍,宽为上凸模基体工作面弦长长度的0.35~0.45倍,深度为25~30mm,强导磁块朝向工作面的一面与上凸模基体弧面平行。
3、根据权利要求1所述的永磁铁氧体干压磁瓦的上凸模,其特征在于:弱导磁块的长度与上凸模基体轴高等长,宽度为上凸模基体弦长的0.2~0.25倍,深度为强导磁块深度的0.45~0.5倍,弱导磁块的末端为1/4的圆面,其半径与弱导磁块宽度等长。
4、根据权利要求1所述的永磁铁氧体干压磁瓦的上凸模,其特征在于:薄膜层采用高光洁度、耐磨、耐腐蚀的薄膜,薄膜层厚度为3~6mm。
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