[实用新型]一种可提高压力测量精准度的防堵装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及防堵装置，尤其涉及一种可提高压力测量精准度的防堵装置。

背景技术

在半导体制造领域，气相沉积设备(包括化学气相沉积(CVD)设备和物理气相沉积(PVD)设备)中通常都会设置用于检测设备反应腔压力的压力表，为使测得的反应腔的压力更加能反应晶圆所处位置的压力，通常会将压力表设置在设置晶圆的反应腔的底面上。

如图1所示，其显示了气相沉积设备反应腔的结构示意图，如图所示，气相沉积设备的反应腔1通过竖直连接在其底面上的测试管道10连接至压力表11，该反应腔1还具有竖直连接在其底面上的抽风管道12和抽风装置13，通过该抽风装置13将反应腔1的反应尾气排出。在反应腔1内进行CVD或PVD工艺时，晶圆设置在反应腔1的底面上，除在晶圆上生成所需的薄膜外，还会在测试管道10的入口处沉积薄膜，该进入测试管道10的薄膜会堵塞测试管道10，极大的影响压力表11测试出的反应腔压力的精准度。

因此，如何提供一种可提高压力测量精准度的防堵装置以避免竖直连接在反应腔底部的压力表的测试管道被堵塞，并提高压力测量的精准度，已成为业界亟待解决的技术问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种可提高压力测量精准度的防堵装置，通过所述防堵装置可避免测试管道被堵塞，并可大大提高压力测量的精准度。

本实用新型的目的是这样实现的：一种可提高压力测量精准度的防堵装置，设置在气相沉积设备的反应腔中，该反应腔通过一竖直连接在其底面上的测试管道连接至一压力表，该防堵装置用于防止该测试管道被堵塞，该防堵装置具有相互连通且分别用于设置在测试管道和反应腔中的引流导管和防堵腔室，该测试管道的直径大于该引流导管且小于该防堵腔室，该防堵腔室的侧面上具有多个通气孔，当引流导管设置在测试管道中时，该测试管道被该防堵腔室遮盖。

在上述的可提高压力测量精准度的防堵装置中，该防堵腔室为一圆柱体腔室或一长方体腔室。

在上述的可提高压力测量精准度的防堵装置中，该通气孔的最低处距离防堵腔室底面的距离为5至8毫米。

在上述的可提高压力测量精准度的防堵装置中，该引流导管设置在该防堵腔室底部中央。

在上述的可提高压力测量精准度的防堵装置中，该多个通气孔均匀排布在该防堵腔室的侧面上。

在上述的可提高压力测量精准度的防堵装置中，该反应腔还具有竖直连接在其底面上的抽风管道和抽风装置。

与现有技术并未在竖直连接在反应腔底面上的测试管道上设置防堵装置，从而致使测试管道被堵塞进而影响压力表测量出的反应腔压力的精准度相比，本实用新型的防堵装置具有相互连通且分别用于设置在测试管道和反应腔中的引流导管和防堵腔室，当引流导管设置在测试管道中时，该测试管道被该防堵腔室遮盖，如此可避免气相沉积工艺所生成的薄膜堵塞测试管道而影响压力表测试反应腔压力的精准度，并可大大提高在反应腔进行的气相沉积工艺的可靠性。

附图说明

本实用新型的可提高压力测量精准度的防堵装置由以下的实施例及附图给出。

图1为气相沉积设备反应腔的结构示意图；

图2为本实用新型的可提高压力测量精准度的防堵装置的主视图；

图3为本实用新型的可提高压力测量精准度的防堵装置在反应腔中的安装结构示意图。

具体实施方式

以下将对本实用新型的可提高压力测量精准度的防堵装置作进一步的详细描述。

参见图2和图3，并结合图1，本实用新型的可提高压力测量精准度的防堵装置2设置在气相沉积设备的反应腔1中，用于防止所述测试管道10被堵塞，所述防堵装置2具有相互连通且分别用于设置在测试管道10和反应腔1中的引流导管20和防堵腔室21，且所述引流导管20设置在所述圆柱体腔室21的底部中央。所述测试管道10的直径大于所述引流导管20且小于所述防堵腔室21，所述防堵腔室21为圆柱体腔室或长方体腔室，且其侧面上具有多个通气孔210，所述多个通气孔210均匀排布在所述防堵腔室21的侧面上。所述通气孔210的最低处距离防堵腔室21底面的距离范围为5至8毫米。在本实施例中，所述防堵腔室21为圆柱体腔室，所述通气孔210的最低处距离防堵腔室21底面的距离为5毫米。