[实用新型]光刻机投影物镜偶像差原位检测系统有效

专利信息
申请号: 200820055177.1 申请日: 2008-01-25
公开(公告)号: CN201166781Y 公开(公告)日: 2008-12-17
发明(设计)人: 袁琼雁;王向朝;邱自成 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F1/00
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 代理人: 张泽纯
地址: 201800上*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 光刻 投影 物镜 偶像 原位 检测 系统
【权利要求书】:

1、一种光刻机投影物镜偶像差原位检测系统,包括产生照明光束的光源(1),用于调整所述光源(1)发出的光束的束腰尺寸、光强分布和部分相干因子和照明方式的照明系统(2),能承载测试掩模(3)并精确定位的掩模台(4),能将掩模图形成像且其数值孔径可调的投影物镜(5),能精确定位的工件台(6),安装在工件台(6)上的测量测试掩模(3)上的图形成像位置的像传感装置(7),其特征在于所述测试掩模(3)由0°方向偶像差测量标记(31)、45°方向偶像差测量标记(32)、90°方向偶像差测量标记(33)和135°方向偶像差测量标记(34)组成,所述的0°方向偶像差测量标记(31)、45°方向偶像差测量标记(32)、90°方向偶像差测量标记(33)和135°方向偶像差测量标记(34)的移相光栅标记,所述像传感装置(7)由依次相连的孔径光阑(71)、成像物镜(72)、光电探测器(73)、数据采集卡(74)和计算机(75)组成。

2、根据权利要求1所述的光刻机投影物镜偶像差原位检测系统,其特征在于所述的移相光栅标记为交替型移相光栅标记,或衰减型移相光栅标记,或无铬移相光栅标记。

3、根据权利要求1所述的光刻机投影物镜偶像差原位检测系统,其特征在于所述的光电探测器(73)是CCD,或光电二极管阵列。

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