[实用新型]非对称型移相光栅标记无效
| 申请号： | 200820056215.5 | 申请日： | 2008-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN201181391Y | 公开（公告）日： | 2009-01-14 |
| 发明（设计）人： | 邱自成;王向朝;袁琼雁 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/00 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人： | 张泽纯 |
| 地址： | 201800上*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 对称 型移相 光栅 标记 | ||
【权利要求书】：
1、一种用于原位检测光刻机投影物镜波像差的非对称型移相光栅标记，其特征在于该标记由两组非对称型移相光栅组成，第一组移相光栅(51)的光栅线条方向为90°，第二组移相光栅(52)的光栅线条方向为0°，该非对称型移相光栅为交替型移相光栅，相邻两透光区域(42)和透光区域(43)的相位差为180°，而透光区域的宽度相同，光栅周期为不透光区域(41)和透光区域(42)的宽度之和，所述移相光栅的线空比为1∶2，即光栅不透光部分(41)和透光部分(42)的宽度之比为1∶2，所述移相光栅的周期为1.92λ/NA，其中：λ为光刻机照明系统光源的波长，NA为光刻机投影物镜数值孔径可变化范围内的最大值和最小值的平均值。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海光学精密机械研究所，未经中国科学院上海光学精密机械研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200820056215.5/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
