[实用新型]可控镁合金熔体流量的堵头机构有效
申请号: | 200820057357.3 | 申请日: | 2008-04-17 |
公开(公告)号: | CN201244679Y | 公开(公告)日: | 2009-05-27 |
发明(设计)人: | 王树琪;郑兴伟;刘广耀;董杰;杨建新;张平;颜文辉;丁文江 | 申请(专利权)人: | 上海交通大学;中条山有色金属集团有限公司 |
主分类号: | B22D41/56 | 分类号: | B22D41/56 |
代理公司: | 上海交达专利事务所 | 代理人: | 王锡麟;王桂忠 |
地址: | 200240*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 可控 镁合金 流量 机构 | ||
1、一种可控镁合金熔体流量的堵头机构,包括:熔体通道、堵头、支撑杆、螺母、支架、流槽,其特征在于,堵头为一锥体,其侧面设有一个流槽,熔体通道一端和熔炼炉焊接连通,另一端的内表面有一个和堵头相配合的内锥面,并在内锥面上分别设有一个与堵头上的流槽尺寸相同的流槽,堵头的大圆底面和支撑杆一端固定相连,支撑杆另一端通过螺母螺旋在支架上。
2、根据权利要求1所述的可控镁合金熔体流量的堵头机构,其特征是,所述堵头,其大圆底面的圆心处设有一个螺孔,该螺孔与支撑杆相连。
3、根据权利要求1或2所述的可控镁合金熔体流量的堵头机构,其特征是,所述堵头,其锥体的锥度为1:10。
4、根据权利要求3所述的可控镁合金熔体流量的堵头机构,其特征是,所述堵头,其小圆底面的直径为25mm,大圆底面的直径为39mm。
5、根据权利要求3所述的可控镁合金熔体流量的堵头机构,其特征是,所述堵头,其长度为70mm。
6、根据权利要求1所述的可控镁合金熔体流量的堵头机构,其特征是,所述流槽,其设置在堵头靠近小圆底面一端的侧面。
7、根据权利要求1或6所述的可控镁合金熔体流量的堵头机构,其特征是,所述流槽,其长度为50mm,宽度为20mm。
8、根据权利要求1或所述的可控镁合金熔体流量的堵头机构,其特征是,所述熔体通道,其内径为25mm,外径为70mm。
9、根据权利要求1所述的可控镁合金熔体流量的堵头机构,其特征是,所述支撑杆,其一端有与堵头螺孔相配的螺纹,并和堵头相连,另外一端和支架相连。
10、根据权利要求1所述的可控镁合金熔体流量的堵头机构,其特征是,所述支架,为长方体,长方体上端设有一圆孔,支撑杆穿过该圆孔。
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