[实用新型]分布反馈注入放大半导体激光器无效

专利信息
申请号: 200820065283.8 申请日: 2008-01-10
公开(公告)号: CN201156647Y 公开(公告)日: 2008-11-26
发明(设计)人: 李润兵;陈立;熊宗元;王谨;詹明生 申请(专利权)人: 中国科学院武汉物理与数学研究所
主分类号: H01S5/00 分类号: H01S5/00;H01S5/12;H01S5/026;H01S5/06
代理公司: 武汉宇晨专利事务所 代理人: 王敏锋
地址: 43007*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 分布 反馈 注入 放大 半导体激光器
【权利要求书】:

1、一种分布反馈注入放大半导体激光器,它包括主激光器(A)、第一光隔离器(B)、锥形激光放大器(C)、第二光隔离器(D)、微弱光探测激光功率稳定系统(E)和激光整形系统(F)、放大后的激光束通过分束镜(38),其特征是电流温度控制电路(1)与主激光器电流温度控制接口(2)和锥形激光放大器电流温度控制接口(3)相连,锥形激光放大芯片(21)的电极经过陶瓷电极(40)与电流温度控制接口(3)相连,主激光器调整座(4)和主激光器准直透镜调整座(8)与主激光器底座(4)相连,分布反馈半导体激光管(7)与热电致冷封装模块(6)相连后固定在主激光器调整座(4)上,主激光器准直透镜(9)和主激光器透镜调整座(8)相连,第一至第四格兰泰勒棱镜(12、13、26、27)与第一、第二旋光器(11、25)相连组成光隔离器后固定在第一、第二光隔离器底座(10、24)上,锥形放大激光器底座(14)与热电致冷块(16)相连,锥形激光放大器输入端聚焦透镜调整座(19)、锥形激光放大器输出端准直透镜调整座(23)和锥形激光放大器底座(14)与热电致冷块(16)相连,锥形激光放大芯片(21)和热敏电阻(17)与锥形激光放大器底座(14)相连,锥形激光放大器输入端聚焦透镜(20)与锥形激光放大器输入端聚焦透镜调整座(19)相连,锥形放大激光器输出端准直透镜(22)与锥形激光放大器输出端准直透镜调整座(23)相连,柱面镜(29)与柱面镜底座(28)相连,主激光器的输出激光经过光隔离器后注入锥形激光放大器,放大后的激光经过光隔离器再经过分束镜(38),光经过柱面镜(29)后整形输出高斯光束。

2、根据权利要求1所述的一种分布反馈注入放大半导体激光器,其特征在于:主激光器(A)包括分布反馈半导体激光管(7)、热电致冷封装模块(6)、主激光器调整座(5)、主激光器准直透镜(9)和主激光器准直透镜调整座(8),分布反馈半导体激光管(7)与热电致冷封装模块(6)相连,热电致冷封装模块(6)与主激光器调整座(5)相连后调解左右的位置,主激光器准直透镜(9)与主激光器准直透镜调整座(8)相连后调解上下的位置,主激光器准直透镜(9)与分布反馈半导体激光管(7)发光端面的位置通过准直透镜(9)前后调节,调节分布反馈半导体激光管(7)和主激光器准直透镜(9)的相对位置,得到准直的高斯光束。

3、根据权利要求1所述的一种分布反馈注入放大半导体激光器,其特征在于:第一光隔离器(B)由第一格兰泰勒棱镜(12)、第一旋光器(11)、第二格兰泰勒棱镜(13)依次相连组成,第二光隔离器(D)由第三格兰泰勒棱镜(26)、第二旋光器(25)、第四格兰泰勒棱镜(27)依次相连。

4、根据权利要求1所述的一种分布反馈注入放大半导体激光器,其特征在于:锥形激光放大器(C)包括锥形激光放大器底座(14)、锥形激光放大芯片底座(15)、热电致冷块(16)、热敏电阻(17)、锥形激光放大器输入端聚焦透镜调整座(19)、锥形激光放大器输入端聚焦透镜(20)、锥形激光放大芯片(21)、锥形激光放大器输出端准直透镜(22)、锥形激光放大器输出端准直透镜调整座(23),热电致冷块(16)与锥形激光放大器底座(14)和锥形激光放大芯片底座(15)相连,热敏电阻(17)和锥形激光放大芯片(21)通过陶瓷电极(40)与电流温度控制端口(3)相连,主激光器(A)输出的准直激光通过锥形激光放大器输入端聚焦透镜(20)后注入锥形激光放大芯片(21),放大后的激光束用锥形激光放大器输出端准直透镜(22)进行准直,锥形激光放大器输入端聚焦透镜(20)和锥形激光放大器输出端准直透镜(22)与锥形激光放大器外壳(18)相连来调节与锥形激光放大芯片(21)的相对位置。

5、根据权利要求1所述的一种分布反馈注入放大半导体激光器,其特征在于:放大后的激光束通过分束镜(38)将其分成两束,通过光电探测器(39)反馈到电流温度控制电路(1)对锥形放大器的电流进行反馈控制,得到功率稳定的激光束。

6、根据权利要求1所述的一种分布反馈注入放大半导体激光器,其特征在于:柱面镜底座(28)与柱面镜(29)相连,锥形激光放大器输出的激光束经过柱面镜(29)整形后得到近似圆形光斑的高斯光束(30)。

7、根据权利要求1或3所述的一种分布反馈注入放大半导体激光器,其特征在于:第一光隔离器(B)放置在主激光器和锥形激光放大器的中间,防止锥形激光放大器输入端聚焦透镜(20)反射光回到分布反馈半导体激光管(7),第二光隔离器(D)放置在锥形激光放大器后面,防止光路中的激光反射回锥形放大激光芯片(21)。

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