[实用新型]光谱仪分析试样精确定位装置无效
| 申请号： | 200820066221.9 | 申请日： | 2008-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN201177603Y | 公开（公告）日： | 2009-01-07 |
| 发明（设计）人： | 余卫华;张穗忠;陈士华;于录军;高云;代松苓 | 申请（专利权）人： | 武汉钢铁(集团)公司 |
| 主分类号： | G01N21/67 | 分类号： | G01N21/67;G01N21/25 |
| 代理公司： | 武汉开元专利代理有限责任公司 | 代理人： | 黄行军 |
| 地址： | 43008*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光谱仪 分析 试样 精确 定位 装置 | ||
【权利要求书】：
1、一种光谱仪分析试样精确定位装置，其特征是该定位装置由两块透明材质制成的试样定位板构成，每块试样定位板表面标注有同样的水平和垂直的刻度线，在每块试样定位板的相同的位置设有多个和光谱仪不同直径的阳极相对应的小孔，在每块试样定位板的四角相同的位置设有可以穿过螺栓的圆孔。
2、根据权利要求1所述的一种光谱仪分析试样精确定位装置，其特征是所述两块试样定位板为200mm×200mm规格。
3、根据权利要求1所述的一种光谱仪分析试样精确定位装置，其特征是水平和垂直的刻度线间隔5mm。
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