[实用新型]一种五层膜结构的低辐射镀膜玻璃无效

专利信息
申请号: 200820069543.9 申请日: 2008-03-11
公开(公告)号: CN201180113Y 公开(公告)日: 2009-01-14
发明(设计)人: 王秀丽;杨真理;郭明 申请(专利权)人: 洛阳新晶润工程玻璃有限公司
主分类号: C03C17/36 分类号: C03C17/36
代理公司: 郑州中民专利代理有限公司 代理人: 郭中民
地址: 471000河*** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 一种 膜结构 辐射 镀膜 玻璃
【说明书】:

技术领域

本实用新型属于一种镀膜玻璃,主要涉及一种五层膜结构的低辐射镀膜玻璃。

背景技术

低辐射镀膜玻璃是指在玻璃表面沉积一层高红外线反射材料(金属银),使玻璃吸收太阳光光谱中的红外线和其它物体发出的红外线非常少,玻璃自身又不存储能量,因此镀膜玻璃向外辐射的红外线也非常少,称为低辐射镀膜玻璃。该玻璃用于窗户上,可有效地阻挡太阳光中的红外线进入室内,降低夏天室内温度,节约空调制冷费用,冬天可以阻挡室内物体发出的红外线被玻璃吸收,散发到室外,提高室内温度,节约取暖费用。

现在市场上已经有很多种低辐射镀膜玻璃产品,第一层膜有用氧化锡的,也有用氧化锌的,第二层膜都是银膜,也有前面加一层镍铬膜的结构,第三层都用镍铬层,第四层主要为保护膜,一般采用氧化锡或氧化锌作保护膜,虽然氧化锡或氧化锌沉积效率高、价格便宜,但其保护作用差,耐磨、耐腐蚀性能不好。

发明内容

本实用新型目的是提供一种五层膜结构的低辐射镀膜玻璃,使其具有成本低,耐磨、耐腐蚀性能好的优点。

本实用新型的目的可采用如下技术方案来实现:其具有玻璃基片,在玻璃基片表面上从底层向上依次镀有氧化锡膜层、银膜层、镍铬膜层,在镍铬膜层表面镀有一层氧化锡膜层,在氧化锡膜层表面镀有一层氮化硅膜层,从而构成五层膜结构的低辐射镀膜玻璃。

采用上述结构,即可以利用氧化锡膜沉积效率高,价格便宜的优点,又可以利用氮化硅膜结构紧密,耐磨、耐腐蚀性能好的优点。

附图说明

附图1为本实用新型的具体结构示意图。

图中:1、玻璃基片,2、氧化锡膜层,3、银膜层,4、镍铬膜层,5、氧化锡膜层,6、氮化硅膜层。

具体实施方式

结合附图,说明本实用新型的具体实施例。

如附图1所示:其具有玻璃基片1,在玻璃基片表面上从底层向上依次镀有氧化锡膜层2、银膜层3、镍铬膜层4,在镍铬膜层表面镀有一层氧化锡膜层5,在氧化锡膜层表面镀有一层氮化硅膜层6,从而构成五层膜结构的低辐射镀膜玻璃。

本实用新型是在真空环境下,通过磁控溅射在玻璃表面沉积五层膜的方法,生产一种红外线辐射率很低的镀膜玻璃。所述的低辐射镀膜玻璃是在镀膜室抽真空至1.1×10-4Pa以下,充入工艺气体(氧气或氮气或氩气),使镀膜室压力稳定在0.3Pa左右,将溅射源送电,靶材开始溅射,送入玻璃将靶材原子或其化合物沉积到玻璃表面。第一个镀膜室充入氧气,靶材为锡靶,将氧化锡膜沉积到玻璃表面为第一层膜,厚度20至60纳米,第二个镀膜室充入氩气,靶材为银靶,在氧化锡上面沉积第二层银膜,厚度8至20纳米;第三个镀膜室充入氩气,靶材为镍铬靶,在银膜上沉积第三层镍铬膜,厚度3至10纳米;第四个镀膜室充入氧气,靶材为锡靶,在镍铬膜上沉积第四层氧化锡膜,厚度15至30纳米;第五个镀膜室充入氮气,靶材为硅靶,在氧化锡膜上沉积第五层氮化硅膜,厚度15~30纳米。

第四层氧化锡膜和第五层氮化硅膜都起保护银膜和镍铬膜的作用,提高膜层的耐磨性能和耐氧化、耐腐蚀性能。采用该结构,即可以利用氧化锡膜沉积效率高,价格便宜的优点,又可以利用氮化硅膜结构紧密,耐磨、耐腐蚀性能好的优点。

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