[实用新型]磁控溅射靶结构及设备有效
| 申请号： | 200820079516.X | 申请日： | 2008-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN201162043Y | 公开（公告）日： | 2008-12-10 |
| 发明（设计）人： | 张文余;赵鑫 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘芳 |
| 地址： | 100176北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 结构 设备 | ||
1、一种磁控溅射靶结构，其特征在于，包括：传动装置，至少两个转动轴和多个磁靶条；所述传动装置缠绕于所述转动轴上，形成传动装置式传动结构；所述磁靶条并排布设于所述传动装置上。
2、根据权利要求1所述磁控溅射靶结构，其特征在于：所述磁靶条包括N极磁体和S极磁体，所述多个磁靶条的N极磁体和S极磁体交替并排布设于所述传动装置上。
3、根据权利要求1所述磁控溅射靶结构，其特征在于：所述磁靶条包括正向磁靶条和反向磁靶条；所述正向磁靶条的N极磁体为长环形，S极磁体为条形，位于所述长环形中；所述反向磁靶条的S极磁体为长环形N极磁体为条形，位于所述长环形中。
4、根据权利要求1所述磁控溅射靶结构，其特征在于所述磁靶条的材质为永久磁铁或电磁铁。
5、根据权利要求1-4中任一所述磁控溅射靶结构，其特征在于所述传动装置为带传动装置或链传动装置。
6、根据权利要求5所述磁控溅射靶结构，其特征在于所述带传动装置为磨擦型带传动装置或啮合型带传动装置。
7、根据权利要求5所述磁控溅射靶结构，其特征在于所述链传动装置所用的链可以为传动链、起重链和曳引链。
8、一种磁控溅射靶设备，包括权利要求1-7任一所述磁控溅射靶结构，其特征在于，还包括：靶材，位于所述传动装置式传动结构的外侧。
9、根据权利要求8所述的磁控溅射靶设备，其特征在于：所述靶材有多个，分别位于所述传动装置式传动结构的上外侧及下外侧。
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