[实用新型]一种跨接式纳米聚焦X射线组合透镜无效
| 申请号： | 200820081869.3 | 申请日： | 2008-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN201156443Y | 公开（公告）日： | 2008-11-26 |
| 发明（设计）人： | 乐孜纯;董文;梁静秋 | 申请（专利权）人： | 浙江工业大学 |
| 主分类号： | G21K1/06 | 分类号： | G21K1/06 |
| 代理公司： | 杭州天正专利事务所有限公司 | 代理人： | 王兵;袁木棋 |
| 地址： | 310014*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 跨接式 纳米 聚焦 射线 组合 透镜 | ||
1、一种跨接式纳米聚焦X射线组合透镜，其特征在于：包括一个一级X射线组合透镜、一个二级X射线组合透镜和一个光轴校准器共同组成，所述一级X射线组合透镜和二级X射线组合透镜固定于所述光轴校准器上，入射X射线束首先射入所述一级X射线组合透镜，经所述一级X射线组合透镜聚焦并出射后，射入所述二级X射线组合透镜再次聚焦，所述二级X射线组合透镜与所述一级X射线组合透镜之间有由所述一级X射线组合透镜的焦斑尺寸和所述二级X射线组合透镜的几何口径共同确定的间隔。
2、如权利要求1所述的跨接式纳米聚焦X射线组合透镜，其特征在于：所述一级X射线组合透镜朝向入射X射线束的表面和上表面，以及所述二级X射线组合透镜朝向所述一级X射线组合透镜的表面和上表面，都刻有宽2微米的标识线；所述光轴校准器与所述一级X射线组合透镜和所述二级X射线组合透镜接触的表面，刻有宽2微米的2条标识线，所述2条标识线之间间隔2微米。
3、如权利要求1或2所述的跨接式纳米聚焦X射线组合透镜，其特征在于：所述一级X射线组合透镜由30-60个依次同轴排布的抛物面形透镜单元组成，所述抛物面形透镜单元开有敞口空气隙，所述空气隙的截面形状为抛物面形。
4、如权利要求3所述的跨接式纳米聚焦X射线组合透镜，其特征在于：所述二级X射线组合透镜由40-80个依次同轴排布的抛物面形透镜单元组成，所述抛物面形透镜单元开有敞口空气隙，所述空气隙的截面形状为抛物面形。
5、如权利要求4所述的跨接式纳米聚焦X射线组合透镜，其特征在于：所述一级X射线组合透镜的几何口径为400-1000微米；所述二级X射线组合透镜的几何口径为80-400微米；所述一级X射线组合透镜和二级X射线组合透镜的厚度范围在20-400微米。
6、如权利要求5所述的跨接式纳米聚焦X射线组合透镜，其特征在于：所述一级X射线组合透镜和所述二级X射线组合透镜材料可以为下列之一：①硅、②铝、③氧化铝、④PMMA。
7、如权利要求5所述的跨接式纳米聚焦X射线组合透镜，其特征在于：所述光轴校准器的材料可以是下列之一：①金属材料、②有机材料、③硅。
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