[实用新型]水封防污染装置有效
申请号: | 200820094928.0 | 申请日: | 2008-06-20 |
公开(公告)号: | CN201222488Y | 公开(公告)日: | 2009-04-15 |
发明(设计)人: | 余仲;黄进权 | 申请(专利权)人: | 深圳市捷佳创精密设备有限公司 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;H01L21/306;C23F1/08;B08B17/00 |
代理公司: | 深圳市康弘知识产权代理有限公司 | 代理人: | 胡朝阳;孙洁敏 |
地址: | 518000广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 水封 污染 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及硅材料进行的酸或碱处理的设备,尤其涉及一种硅材料的酸或碱处理设备中的水封防污染装置。
背景技术
在硅片、硅料与硅芯处理中,由于涉及酸或碱处理工序,故需要把酸或碱处理工作区与其它处理(水洗/干燥)工作区分开,以避免酸或碱对后处理工作区的污染。现有避免酸或碱对后处理工作区的污染的做法有:1、通过酸碱段的抽排风系统来避免酸碱气的漂移;这样做一个要求抽风效果要好,另一个是抽风系统要连续工作。2、把设备分成两部分来做,酸洗做一台设备,碱洗做一台设备;这样做由于两台设备工艺要连着做,就需人为周转,会带来工艺的二次污染。
实用新型内容
本实用新型为了克服现有避免酸或碱对后处理工作区污染的方法的处理难度大、工艺难控制的缺陷,提供一种水封防污染装置,其通过水封结构实现污染的控制,结构简单、隔离效果好。
为解决上述技术问题,本实用新型采用如下技术方案:一种水封防污染装置,其设置在硅材料的酸或碱处理的设备内。该水封防污染装置包括隔板和一过渡槽,所述过渡槽为上方开口的容器,其内带有液体,隔板下部连接在过渡槽中间位置并延伸至液面以下。隔板及过渡槽均与设备内壁紧密连接,从而实现将设备内腔的空间隔离。其中过渡槽侧面尺寸可设置为与设备内腔尺寸相匹配,从而实现与设备内腔侧壁部分连接;但尺寸也可以比设备内腔侧壁小,其空隙部分通过隔板来连接隔离。
所述过渡槽内部设有传送机构。传送机构的传送起点与终点分别位于过渡槽内、隔板延伸面的两侧。
所述传送机构上还设置有工件篮,且传送机构与隔板下端的距离大于工件篮高度。以保证传送时工件篮能顺利通过隔板下方。
所述设备包括被隔板所隔离的两个独立的内部空间,它们分别为左工作区和右工作区,过渡槽横跨两个工作区。
所述过渡槽中的液体为水。
本实用新型在硅材料进行酸或碱处理设备中的分区处增加一带传送机构的过渡槽,通过隔板插于水中以及隔板和过度槽与设备内壁的密闭,将设备的内部空间左右两工作区的气流隔断,从而避免带有酸碱的气流对后处理工作区的污染。该装置结构简单、隔离效果好。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型做进一步的说明:
图1为本实用新型结构示意图。
具体实施方式
如图1所示的一种用于硅材料进行酸或碱处理设备中的水封防污染装置,它设置在硅材料的酸或碱处理设备内需要隔离的区域处。本实用新型的优选实施例包括:一纵向于设备截面隔板5和一个过渡槽1,过渡槽1为上方开口的容器,其内装有水4,所述隔板5下部连接在过渡槽1中间位置并插于水4中;隔板5及过渡槽1均与设备内壁6连接从而实现利用水封将工作区空气隔断。设备是四方框架结构。在所述过渡槽1内部设有传送机构2,其传送起点与终端分别位于过渡槽1内与隔板5延伸面垂直的两侧。所述传送机构2上还设置有工件篮3,传送机构2上部与隔板5下端的距离大于工件篮3的高度。过渡槽1侧面(与隔板垂直连接的面)尺寸若与设备内腔侧壁尺寸正好相匹配,则可将设备内腔侧壁部分直接与过渡槽1连接;但若过渡槽1侧面尺寸比设备内腔侧壁小,那么其空隙部分设置隔板5隔离。总之确保设备内部空间被隔板隔离为相互独立的左工作区7和右工作区8,并且过渡槽1横跨于两个工作区。
所述过渡槽1中填充的也可以是其它液体。
工作时,首先要确保过渡槽1中的液体浸没过渡槽内的隔板5底端,然后将工件放入被液体浸没的工件篮3中,再启动传送机构2将工件篮从一个工作区传送到另一个工作区。
本实用新型在硅材料的酸或碱处理设备内部空间通过隔板5插于液体中,利用水封将左右两工作区7、8有效分开,工件篮3的传送由设于槽内传送机构2实现,这样两区的气流就不能连通,起到隔离效果,避免带有酸碱的气流对后处理工作区的污染。结构简单、隔离效果好。
上述为本实用新型优选实施例,凡在此原理上改进,均落入本实用新型的保护范围。
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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