[实用新型]通过防护处理的磁控溅射圆柱靶无效
| 申请号： | 200820123702.9 | 申请日： | 2008-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN201309962Y | 公开（公告）日： | 2009-09-16 |
| 发明（设计）人： | 王智建;陈志涛;刘建民;秦和军;丁朋磊;李雪峰 | 申请（专利权）人： | 皇明太阳能集团有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 何文彬 |
| 地址： | 253000山东省德州市经济开*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 通过 防护 处理 磁控溅射 圆柱 | ||
【权利要求书】：
1、一种通过防护处理的磁控溅射圆柱靶，包括热缩管、靶芯轭铁和安装在靶芯轭铁上的磁铁，其特征在于，在装配好的磁铁表面和靶芯轭铁表面涂有防锈漆，所述的热缩管通过热风枪的烘烤箍在靶芯外面，所述的热缩管的两个端口与靶芯轭铁间设有硅胶，所述的热缩管的两个端口最外层设有防水胶带。
2、根据权利要求1所述的通过防护处理的磁控溅射圆柱靶，其特征在于，所述的硅胶为704硅胶。
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