[实用新型]内圆切片机防护罩无效
申请号: | 200820124585.8 | 申请日: | 2008-12-25 |
公开(公告)号: | CN201329622Y | 公开(公告)日: | 2009-10-21 |
发明(设计)人: | 闵振东;李秀辉 | 申请(专利权)人: | 北京有色金属研究总院;北京国晶辉红外光学科技有限公司 |
主分类号: | B28D5/00 | 分类号: | B28D5/00 |
代理公司: | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 | 代理人: | 朱印康 |
地址: | 10008*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 切片机 防护罩 | ||
技术领域
本实用新型属晶体切割技术领域,特别涉及一种内圆切片机防护罩。
背景技术
目前立式内圆切片机大多数采用开放式防护罩,此种防护罩尺寸小,无法阻止防护罩上方晶片飞出,虽然对大尺寸的碎晶片能起到防止其飞出的作用,但对于小尺寸高动能的碎晶片仍无法阻止其飞出对操作者的威胁,甚至高动能的碎晶片能穿透防护罩。因此,从安全角度讲,开放式防护罩仍无法对操作者安全提供有效保障。从操作来讲,国产的内圆切片机采用三面封闭的开放式防护罩,在操作人员操作时需将防护罩从切片机上取下,不利于操作。目前,日本的TSK型内圆切片机采用对开门式的开放式防护罩,该防护罩直接固定在切片机上盖上,工作人员在操作时只需开关门就可以了,但是对开门很容易被外力弹开,给操作者的安全造成威胁。
实用新型内容
本实用新型的目的为了解决背景技术中开放式防护罩仍无法对操作者安全提供有效保障的问题,提供一种内圆切片机防护罩,其特征在于,内圆切片机防护罩的罩体1为长方体结构,其正面的右侧封闭50%,左侧面和背面全封闭,右侧面在与正面和背面的连接处各封闭20%,顶面从左侧面向右封闭60~70%,底面从左侧面向右封闭10~20%,正面的上下边各粘接一条滑动导轨,其长度和正面的宽度相同,推拉门2镶嵌在上下滑动导轨内,推拉门2的宽度为罩体1正面宽度的55~60%。
所述罩体1的材料是厚度为3~5mm的有机玻璃板材,各面的内表面都贴防爆膜。
所述推拉门2的材料是厚度为3~5mm的有机玻璃板材,内表面全贴防爆膜。
本实用新型为封闭式防爆防护罩,在立式内圆切片机上使用时,放置在切片机刀盘罩4上,切片机送料系统3从罩体1的顶面的未封闭的窗口进入防护罩内。防护罩对内圆切片机的整个切片机送料系统3和刀盘罩4进行了封闭处理,操作时,工作人员只需拉动推拉门2即可进行常规操作。采用封闭式防爆防护罩,提高了对切片机飞片、炸刀情况的防护,保障了操作者人身安全,并且操作更为简便。
本实用新型的其有益效果为,封闭式防护罩比传统开放式防护罩更能在各个角度对操作者实施防护,防爆膜能够有效阻止高动能碎晶片穿透防护罩各个面的有机玻璃板,真正起到安全防护的功效。这种防护罩可以有效消减刀具切割晶体时产生的噪音。推拉门设计比传统防护罩操作更加简便,比对开门防护罩更安全。
附图说明
图1为防护罩在切片机上放置示意图;
图2为防护罩的三维视图。
图中,1为罩体,2为推拉门,3为切片机送料系统,4为切片机刀盘罩。
具体实施方式
图1和图2是本实用新型的一个实施例,内圆切片机防护罩的罩体1为长方体结构,其正面的左侧封闭50%,左侧面和后面全封闭,右侧面在与正面和后面的连接处各封闭20%,顶面从左侧面向右封闭60%,底面从左侧面向右封闭10%,正面的上下边各粘接一条滑动导轨,其长度和正面的宽度相同,推拉门2镶嵌在上下滑动导轨内,推拉门2的宽度为正面宽度的60%。罩体1和推拉门2的材料都是厚度为4mm的有机玻璃板材,内表面都贴满防爆膜。
本实用新型在立式内圆切片机上使用时,放置在切片机刀盘罩4上,切片机送料系统3从罩体1的顶面的未封闭的窗口进入防护罩内。防护罩对切片机整个送料系统3及刀盘罩4进行了封闭处理,操作时,工作人员只需拉动推拉门2即可进行常规操作。采用封闭式防爆防护罩提高了对切片机飞片、炸刀情况的防护,保障了操作者人身安全,并且使操作更简便。其特点在于,封闭式防护罩能在各个角度对操作者实施防护,并能有效减小刀具切割晶体时产生的噪音;整个防护罩内贴满防爆膜,能够有效阻止高动能碎晶片穿透有机玻璃,达到真正防爆的目的。
本实用新型用于半导体晶体的内圆切片机。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京有色金属研究总院;北京国晶辉红外光学科技有限公司,未经北京有色金属研究总院;北京国晶辉红外光学科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200820124585.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。