[实用新型]一种内传输轮轨导引结构

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种输送时辅助导引结构，特别指一种应用于真空溅镀得载盘输送过程中，其轮轨的导引结构。

背景技术

真空溅镀技术是真空薄膜制程中应用层面相当广泛的一项重要技术，近年来己逐渐取代喷导电漆或电解电镀等方式，大量应用在光电、通信及半导体等产业，成为相当重要的表面处理技术。

请参阅图1所示，一般真空溅镀技术利用磁控溅镀阴极板11，将离子化的气体分子13以高速轰击激发镀材18，使镀膜分子12均匀散布在真空腔体10内各个角落，再藉由电位差高速溅射在被镀物19表面上，进而达到镀膜的目的。

而因应真空溅镀制程应用层面日广，为增加相关镀膜产品的产业竞争力，目前现有大部分溅镀设备为连续式多腔体型式，以取代传统批次式或晶圆式生产方式。如图2所示，连续式传输作业流程如可概分为进料区、溅镀区及出料区三个区域。每一个区域都至少由一真空腔体10组成，再利用传输机构将被镀物19输送至不同区域的真空腔体10内进行各项程序作业。而一般连续式真空溅镀设备其自动化传输机构皆利用极限开关及摩擦原理来完成不同腔体之间传输顺序。

请再参阅图3，每个腔体内设置有由二轮轴固定座15及若干轮轴14等构件组成的框架，以及由马达13及若干链条17组成的传动机构。输送传动时，该马达13带动位于框架前端的第一个轮轴14转动后，再藉由该链条17带动后半部的轮轴14转动。而用以承载被镀物19的托盘12置于轮轴14两侧的胶环16上方，藉由该托盘12与胶环16之间摩擦力的作动下，将托盘12带动至下一个真空腔体10，而能连续进行真空溅镀的各项作业程序。

然而，请参阅图4所示，该托盘12表面为平滑的板面，而这些胶环16为环状物，其与托盘12表面接触时，仅呈线状的接触，当该托盘12置于这些胶环16上进行输送的行程中，并无任何导引或限制的构件加以辅助，因此托盘12在输送过程中，便容易产生不定向的晃动或偏摆情形，不仅可能使置于其上方的被镀物19产生移动的不稳情形，更影响托盘12在腔体与腔体间输送路径的稳定度及精密性，而如此针对此缺失加以改善，便成为业者思及实用新型的方向。

另外，现有传动系统的作动，将马达13组设于相对该轮轴固定座15前端的第一个轮轴14侧边，再将若干链条17呈内外交错套置于相邻的二轮轴14间，据以当该马达13启动时，能通过这些链条17的传动，使后方的其它轮轴14同步转动，达到输送该托盘12的目的。然而当上述传动机构在进行托盘12的输送作业时，因为该马达13设置于最前端的轮轴14处，与后方的轮轴14有着一定距离的差距，因此不仅动力传达时会有递减的情形，而造成动力前、后动力的不平均，亦使得前后轮轴14传动的平稳性无法均等的维持，且此种情况随着皮质链条17长时间的使用而更加明显，对于溅镀作业质量的影响甚巨，实有进一步加以改善的必要。

实用新型内容

本实用新型的主要目的，在于解决上述的问题而提供一种内传输轮轨导引结构，令用于承放被镀物的载盘在滚轮上传输位移时，能具有导引其输送路径的功能，以提升输送作业的稳定性。

为实现上述目的，本实用新型提供一种内传输轮轨导引结构，应用于真空溅镀的设备，由一腔体，以及组设于该腔体内的框架、若干轮轴与滚轮，以及一载盘与传动机构等构件组成。将这些轮轴以等间隔枢组于该框架二侧之间，且令这些滚轮以两两平行构态套组于每一轮轴上，同时所有套组于该框架上的滚轮呈二行列状对齐排列，又各该滚轮沿其圆周方向的轮面形成有一呈凹缘形态定位部。令该载盘能置于这些滚轮上方，该载盘供欲溅镀的被镀物承放，其背面对应这些呈行列状平行对齐排列的滚轮的位置，凸设形成有对应其行列数目及定位部形状的二嵌置部，令该载盘放置于这些滚轮上时，该二嵌置部恰与这些定位部作嵌设结合。而该传动机构由一马达、若干传动轮及动力传输组件组成，该马达固设于平台的脚架侧边，且位于相邻该框架中间的轮轴适当处，这些传动轮分别套置于该马达的传动轴，以及各该轮轴外端处，而这些动力传输组件则套设于该马达的传动轴与轮轴之间、以及轮轴与轮轴之间的传动轮上。藉以能通过传动机构的作动，而令这些滚轮带动该载盘作输送行程的移位，而在输送的过程中，利用该载盘的嵌置部嵌合、限位于这些滚轮的定位部的结构设计，令该载盘的移动具有导引效果，进而能确保该载盘输送行程的平稳度与安定性。同时利用该马达设置于这些轮轴中间位置的结构设计，亦能使动力的传达更为稳定、均等，避免失衡的情形发生。

附图说明

图1：真空溅镀原理示意图。

图2：现有连续式溅渡作业流程示意图。

图3：现有真空腔体立体分解图。