[实用新型]高散热型溶剂回收设备无效

专利信息
申请号: 200820132018.7 申请日: 2008-08-01
公开(公告)号: CN201324587Y 公开(公告)日: 2009-10-14
发明(设计)人: 谢绍组;吕丽红 申请(专利权)人: 承杰有限公司;吕丽红;林美铃
主分类号: B01D53/08 分类号: B01D53/08
代理公司: 天津三元专利商标代理有限责任公司 代理人: 胡婉明
地址: 中国*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 散热 溶剂回收 设备
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及溶剂回收设备,尤其涉及一种通过减少热蓄积的浮动式碳床、强制对流的碳床均匀散热降温以及高耐燃性活性碳改质,避免碳床热蓄积过热甚至着火的高散热型溶剂回收设备。

背景技术

温室气体(CO2)减量与资源再利用是全球必须共同面对的课题,中国台湾已是全球温室气体排放增长率最高,人排放量也居前茅的地区,由于过去产业的快速发展与注重于削减率的环保政策,造成产业在处理挥发性有机废气时,并未重视资源回收再利用,而是以燃烧处理为主;然而,目前由于国际原材料价格不断上涨,因此采用活性碳吸脱附系统作为溶剂回收的从业者越来越普遍,但在常温度下处理某些特定VOCs(如酮类或松脂类有机物,如Cyclohexone、Ketones或Turpentines)时(US EPA Technical Bulletin,1999),因本身吸附放热至某一温度时而发生触媒催化作用,会使有机物产生聚合或其他反应,进而引发活性碳着火的问题,由于含酮类溶剂气体容易导致碳床着火,故目前市场上仍倾向直接排放或燃烧,并未进行回收。

其次,中国台湾产业有两大群落,一类是政府极力扶植的IC及面板为主的相关高科技产业,另一类则是以包括PU皮业、石化业、皮革业、印刷业、涂装业及胶带业等传统产业为主;其中,高科技产业为现阶段国家工业发展重心,再加上高科技产业群聚现象,会对于环境造成相当大负荷;再者,高科技产业在制造过程中为确保品质,经常使用大量易挥发性的有机溶剂进行清洗作业,其衍生的挥发性有机物(Volatile Organic Compounds,VOCs),可能经由逸散或排放管道进入大气环境中。

再者,由环保部门空气品质监测资料显示,VOCs及NOx等臭气前驱物质与光反应所产生的臭氧,有取代悬浮微粒成为影响空气污染指数(PSl)的主要污染物的现象,故,加强管制VOCs排放乃是改善空气品质的当务之急;因此,环保部门在过去几年陆续制定各行业的VOCs排放标准(包括半导体、光电、汽车涂装、PU皮革、胶带等产业)来管制其污染排放,以及包括未来的其他传统行业(印刷、涂装等),也都将陆续制定管制标准。其中,除了半导体及光电业之外,其余都是以传统产业为主,对於有机溶剂的用量,传统产业用量远高于高科技业,因此不管排放标准或VOCs空污费征收,对于传统产业的冲击都远高于高科技产业,加上原材料价格高涨,以MEK为例,每公斤价格由一年多前原先20多元/公斤,涨到60多元/公斤,涨幅高达200%;又,现有活性碳回收设备因受限于酮类放热问题,无法用于酮类溶剂的回收,从业者被迫选择直接排放或焚烧方式,这样对于能源、资源(原材料)的减量使用,具有负面影响。

然而,依据目前制备过程的特性、溶剂用途、产品需要及国外SCC排放系数分析,计有七大类型的操作形式会造成VOCs的排放,如下表1所示。

表1:七大类型的操作形式造成VOCs排放表

在高科技产业中,以积体电路产业产生的污染问题最为严重,其次为光电产业;综括在半导体制造业及光电业排放的主要污染物,大多为异丙醇及丙酮为主,以及其他如2-丁酮、甲苯、二甲苯、乙酸丁脂、PGMEA(Propyleneglycol monomethylethyl acetate)及三氯乙烷等污染物。上述污染物如异丙醇、丙酮、丁酮、PGMEA、PGME等,多半为水溶性高的物质;而制程使用的去光阻剂的成分,如ACT690中含有DMSO(dimethyl  sulfuroxide)、NEA(N-dimethyl acetamide)、MEA(methyl ethyl amide)、NMP(N-methylpyrrolidone),则属于硫类和胺类的有机物,其沸点高,高温下较不稳定,且这些物质具有恶臭。

在传统产业方面,各产业所使用的溶剂不尽相同,但主要有酮类、芳香族及酯类等三类,例如,聚氨基甲酸酯(PU)合成皮业制程包括干式及湿式,干式PU合成皮制程是将PU树脂以溶剂稀释,而产生挥发性有机物的单元,包括涂布、烘干成膜、上糊、贴合、烘干、印刷处理等,主要使用的有机溶剂为甲苯(Toluene)、二甲基甲酰胺(DMF)、丁酮(MEK)及邻苯二甲酸二辛酯(DOP,粒状)等;湿式制程主要产生挥发性有机物的单元,包括涂布、凝结、水洗、烫干、烘干、研磨压花贴合表面膜等,主要使用的有机溶剂为DMF。

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