[实用新型]真空溅镀机的阴极构造无效

专利信息
申请号: 200820135886.0 申请日: 2008-10-10
公开(公告)号: CN201301337Y 公开(公告)日: 2009-09-02
发明(设计)人: 刘辛 申请(专利权)人: 苏州凡特真空溅镀科技有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215000江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 真空 溅镀机 阴极 构造
【权利要求书】:

1、一种真空溅镀机的阴极构造,包含:辅助磁场产生装置,其与真空溅镀机的机架机械性连接;靶材,其与电场阴极相接并具有内侧面与外侧面,所述内侧面朝向所述辅助磁场产生装置,所述外侧面朝向真空溅镀机的轰击带电粒子;其特征在于:还包括干扰磁性片,所述干扰磁性片置于所述靶材的内侧面且位于所述靶材与辅助磁场产生装置之间。

2、如权利要求1所述的真空溅镀机的阴极构造,其特征在于:所述干扰磁性片为具有永久磁性的物质或具有软磁特性的导磁物质构成。

3、如权利要求1或2所述的真空溅镀机的阴极构造,其特征在于:所述的真空溅镀机的阴极构造进一步具有一连接承载金属板,该连接承载金属板位于该辅助磁场产生装置与靶材之间且所述干扰磁性片位于该连接承载金属板中。

4、如权利要求3所述的真空溅镀机的阴极构造,其特征在于:所述的真空溅镀机的阴极构造进一步具有一铟连结构造,该铟连结构造位于该连接承载金属板及靶材之间。

5、如权利要求3所述的真空溅镀机的阴极构造,其特征在于:所述的真空溅镀机的阴极构造进一步具有一弹性靶材锁固结构,以锁固该靶材于该连接承载金属板上。

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