[实用新型]溅镀靶材的冷却装置

说明书

技术领域

本实用新型是一种溅镀靶材的冷却装置，其特别是关于一种真空溅镀制程中可增进溅镀靶材的散热效率的冷却装置。

背景技术

真空溅镀技术是真空薄膜制程中应用层面相当广泛的一项重要技术，近年来已经逐渐取代喷导电漆或电解电镀等方式，大量地应用在光电、通信、半导体等产业，成为相当重要的表面处理技术。

在溅镀制程中，是将一溅镀靶材及待镀工件设置于一布满惰性气体的真空环境中，该溅镀靶材及待镀工件之间是存在着一具有高电位差的电场，当惰性气体离子受到电场加速而撞击该溅镀靶材表面，该溅镀靶材表面的原子受撞击后则飞向该待镀工件并且在待镀工件的表面沉积而形成薄膜。

然而，在溅镀过程中溅镀设备会产生高温，溅镀靶材因而必须具备良好的散热效率，以非金属靶材为例，由于非金属靶材的散热效率不佳，所以必须以铟为介质接合于一无氧铜层，通过该无氧铜层优异的热传导效率协助该非金属靶材进行散热，另外，还会在溅镀设备中辅以冷却水路的搭配以进一步提升其散热的效果。

如图4所示，是为一用于真空溅镀制程的现有技术溅镀源(1)，该现有技术溅镀源(1)具有一溅镀源本体(11)，该溅镀源本体(11)中设有一溅镀阴极(12)，该溅镀阴极(12)具有一阴极本体(121)以及一锁附于该阴极本体(121)上的溅镀靶材(122)，该阴极本体具有一环形水道(121A)。

此外，该溅镀源本体(121)更具有一设置于该阴极本体下方的冷却装置(13)，该冷却装置(13)包括一具有一凹槽(131A)的绝缘座(131)、一设置于该绝缘座(131)的凹槽(131A)中的磁铁底板(132)以及一位于该绝缘座(131)与该磁铁底板(132)之间的胶环(133)，该冷却装置(13)是以该磁铁底板(132)接触于该溅镀阴极(12)的阴极本体(121)。

再者，该绝缘座(131)具有二水路接头设置孔(131B)以供二水路接头(134)设置其中以提供散热用的冷却水，该磁铁底板(132)则具有二连接于该环形水道(121A)的水路通孔(132A)。

在溅镀过程中，冷却水(如图中粗黑线所示)由一水路接头(134)注入该绝缘座(131)中并且经由该磁铁底板(132)的一水路通孔(132A)进入该阴极本体(121)的环形水道(121A)，接着再由该磁铁底板(132)的另一水路通孔(132A)被抽取离开该环形水道(121A)并经由另一水路接头(134)离开该冷却装置(13)，以此提供一冷却水的循环系统以带走溅镀过程中所产生的热能。

然而，该绝缘座(131)与该磁铁底板(132)之间所设置的胶环(133)虽然是作为防止冷却水外泄之用，但该胶环(133)具有一定的厚度，使得该绝缘座(131)与该磁铁底板(132)之间存在一空隙，因此冷却水在经由该水路通孔(132A)进入该环形水道(131A)之前，大部分的冷却水会溢流于该绝缘座(131)与磁铁底板(132)之间的空隙，并且在进入该水路通孔(132A)之前就经由另一水路接头(134)被抽取而离开该冷却装置(13)，造成进入该环形水道(131A)的冷却水量不足，大大降低了冷却效果；另外，由于冷却水并非使用纯水，所以在经过该水路通孔(132A)时会有杂质附着于该水路通孔(132A)之孔壁上导致孔径缩小，这也让冷却水无法顺利进入该环形水道(131A)；基于上述的冷却装置所存在着不利于冷却水进入该阴极本体的环形水道以利散热的种种缺失，将使得该溅镀靶材因温度过高产生铟熔现象而影响了溅镀制程的质量。

实用新型内容

本案的实用新型创作人，鉴于现有技术溅镀靶材的冷却装置因水路设计不良导致散热效率不佳，造成铟熔现象进而影响溅镀质量的缺失，所以投注心力研发出本实用新型的冷却装置，以期解决上述问题。

本实用新型的主要目的在于提供一种溅镀靶材的冷却装置，其特别是关于一种于真空溅镀制程中可增进溅镀靶材的散热效率的冷却装置。

为达到上述目的，本实用新型是采取以下的技术手段予以达成，其中本实用新型的冷却装置是设置于一溅镀阴极的阴极本体的下方，该阴极本体具有一环形水道，该冷却装置包括有：

一绝缘座，系具有一凹槽以及至少二贯穿该绝缘座并连通于该凹槽的接合孔；一磁铁底板，系设置于该凹槽之中，具有至少二水路接头设置孔，该水路接头设置孔系介于该环形水道与该接合孔之间并且对应于该环形水道与该接合孔；至少二水路接头，各具有一接合部以及一连接于该接合部之一端的出水端部；该绝缘座的接合孔的壁面以及该水路接头的接合部的外壁均设有螺纹。