[实用新型]改进型密封圈研磨机台有效
申请号: | 200820146346.2 | 申请日: | 2008-11-12 |
公开(公告)号: | CN201309116Y | 公开(公告)日: | 2009-09-16 |
发明(设计)人: | 萧智宏;颜禾仔 | 申请(专利权)人: | 海堡(厦门)橡胶有限公司 |
主分类号: | B24B21/00 | 分类号: | B24B21/00 |
代理公司: | 厦门市新华专利商标代理有限公司 | 代理人: | 许 伟 |
地址: | 361022福建省*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 改进型 密封圈 研磨 机台 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种密封圈加工设备,特别是涉及一种改进型密封圈研磨机台。
背景技术
密封圈作为一种密封件广泛应用于机械、日用品中,如液压缸的密封圈、高压锅的密封圈等。密封圈大都采用橡胶材料制成,注塑成型后,密封圈在模具的结合面上会形成毛边,该毛边在机械或人工去除后表面仍较粗糙,需用砂轮进行研磨。习用的用于研磨密封圈表面的研磨机台主要由机座、机架、砂带轮、抛光棒组成;机架安装在机座上,砂带轮通过转轴可旋转的安装在机架上,用于套接密封圈的抛光棒加工时将密封圈靠向砂带轮,对密封圈的外表面进行研磨。但这种仅经过砂带轮研磨的密封圈表面仍然较为粗糙,而且这种习用的研磨机台不能对密封圈的内表面进行研磨。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种改进型密封圈研磨机台,它可将密封圈的表面研磨的更加光滑,并且可同时对密封圈的内表面进行研磨。
为实现上述目的,本实用新型的技术解决方案是:
本实用新型是一种改进型密封圈研磨机台,它包括机座、机架、砂带轮、抛光棒;机架安装在机座上,砂带轮通过转轴可旋转的安装在机架上,用于套接密封圈的抛光棒加工时靠在砂带轮一侧;它还包括一抛光布轮,该抛光布轮套接在砂带轮的转轴上且位于砂带轮的一侧。
所述的抛光棒的外表面为粗糙的摩擦面。
所述的抛光棒的外表面覆盖一层砂纸。
采用上述方案后,由于本实用新型是在原有的研磨机台上增加了一个与砂带轮同轴设置的抛光布轮,该抛光布轮可对经砂带轮抛光后的密封圈进一步进行抛光,使得密封圈的外表面更加的光滑。此外,本实用新型还对抛光棒进行的改进,将抛光棒的外表面制成粗糙的摩擦面,将密封圈松动套接抛光棒,在研磨密封圈的外表面的同时,密封圈会围绕抛光棒旋转,使得密封圈的内表面与抛光棒摩擦而被研磨,从而达到同时研磨密封圈内外表面的目的。
下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步的说明。
附图说明
图1是本实用新型的轴测图;
图2是本实用新型机台的轴测图;
图3是本实用新型抛光棒的轴测图。
具体实施方式
如图1所示,本实用新型是一种改进型密封圈研磨机台,它包括机座1、机架2、砂带轮3、抛光棒4、抛光布轮5。
所述的机架2安装在机座1上,砂带轮3通过转轴6可旋转的安装在机架2上,套接有密封圈10的抛光棒4加工时靠在砂带轮3一侧。所述的抛光布轮5套接在砂带轮3的转轴6上且位于砂带轮3的一侧,以便密封圈10在经砂带轮3研磨完后可接着在抛光布轮5进行研磨。
为了同时对密封圈10内表面进行研磨,抛光棒4的外径设计成小于密封圈的内径,将抛光棒4的外表面制成粗糙的摩擦面,或直接在抛光棒4的外表面上包裹一层砂纸31。
本实用新型的工作原理:
1、将多个密封圈10松动套接在抛光棒4上;
2、将套接有密封圈10的抛光棒4靠向砂带轮3,对密封圈10的表面进行研磨,同时,由于摩擦力的作用,松动套接在抛光棒4会围绕抛光棒4旋转,使得密封圈10的内表面与抛光棒4的外表面产生摩擦而被研磨。
3、将经砂带轮3研磨过的密封圈10靠向抛光布轮5,由于摩擦力的作用,松动套接在抛光棒4会围绕抛光棒4旋转,使得密封圈10的内表面与抛光棒4的外表面产生摩擦,对密封圈10的内表面进行研磨。
本发明的重点就在于:增加了一个与砂带轮同轴设置的抛光布轮,且将抛光棒外表面制成粗糙面。
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