[实用新型]影像仪工作台底座无效

专利信息
申请号: 200820146641.8 申请日: 2008-08-13
公开(公告)号: CN201284902Y 公开(公告)日: 2009-08-05
发明(设计)人: 周文斌 申请(专利权)人: 东莞市源兴光学仪器有限公司
主分类号: F16M11/00 分类号: F16M11/00
代理公司: 东莞市冠诚知识产权代理有限公司 代理人: 罗伯硕
地址: 523128广东省东莞市东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 影像 工作台 底座
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及影像仪设备技术领域,特别是涉及一种影像仪工作台底座。

背景技术

现有技术的一种影像仪工作台底座整块由铸铁制成,影像仪配备的电器元件装在一个盒子里置于影像仪工作台底座的后面,这显得既不美观、又占据空间。随着影像仪设备技术的发展,影像仪工作台底座也急需更新换代,人们迫切希望一种电器元件置于影像仪工作台底座内、既美观、产品档次又高的影像仪工作台底座问世。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是,克服上述现有技术存在的缺陷,提供一种电器元件置于影像仪工作台底座内、既美观、产品档次又高的影像仪工作台底座。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:影像仪工作台底座,包括底部、正面和上面,其特征是:在正面和上面的连接部位设计有一斜面,在底部自后向前设计有一凹槽。

在上述技术方案中,在上面与凹槽对应部位设计有一个以上的通孔,在上面与底部对应部位至少设计有一个通孔。

在左侧面、右侧面或底部设计有一个以上的孔。

底部的长度为550mm~950mm,底部的宽度为500mm~750mm,底座的厚度为90mm~110mm。

凹槽的长度为430mm~680mm,凹槽的宽度为200mm~250mm,凹槽的深度为50mm~65mm。

制造影像仪工作台底座选用的材料为花岗岩或大理石。

本实用新型的有益效果是:由于在底部自后向前设计有一凹槽,影像仪配备的电器元件可以置于该凹槽内,再用一块铁板或合金板将该凹槽闭合,避免了影像仪配备的电器元件装在一个盒子里置于影像仪工作台底座后面的现象;在正面和上面的连接部位设计有一斜面,制造影像仪工作台底座选用的材料为花岗岩或大理石,从而使影像仪工作台底座既美观、产品档次又高,节省了铸铁材料,利用了丰富的花岗岩或大理石资源。

附图说明

图1是本实用新型的仰视图;

图2是本实用新型的主视图;

图3是本实用新型的俯视图;

图4是本实用新型的立体图;

图5是本实用新型底部朝上的立体图;

图6是沿图3中A-A线的剖视图;

图7是本实用新型的右视图;

图8是本实用新型的左视图。

图中,1、底部;2、凹槽;3、斜面;4、正面;5、上面。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步详细的说明。

实施例1,参见图1至图8,本实施例所述的一种影像仪工作台底座,包括底部1、正面4和上面5,其特征是:在正面4和上面5的连接部位设计有一斜面3,在底部1自后向前设计有一凹槽2;在上面5与凹槽2对应部位设计有两个通孔,在上面5与底部1对应部位设计有一个通孔;在左侧面、右侧面各设计有两个孔,在底部1设计有四个孔;底部1的长度为950mm,底部1的宽度为750mm,底座的厚度为100mm;凹槽2的长度为680mm,凹槽2的宽度为250mm,凹槽2的深度为60mm;制造影像仪工作台底座选用的材料为大理石。

实施例2,参见图1至图8,本实施例所述的一种影像仪工作台底座,包括底部1、正面4和上面5,其特征是:在正面4和上面5的连接部位设计有一斜面3,在底部1自后向前设计有一凹槽2;在上面5与凹槽2对应部位设计有两个通孔,在上面5与底部1对应部位设计有一个通孔;在左侧面、右侧面各设计有两个孔,在底部1设计有四个孔;底部1的长度为550mm,底部1的宽度为500mm,底座的厚度为100mm;凹槽2的长度为430mm,凹槽2的宽度为200mm,凹槽2的深度为60mm;制造影像仪工作台底座选用的材料为花岗岩。

实施例3,参见图1至图8,本实施例所述的一种影像仪工作台底座,包括底部1、正面4和上面5,其特征是:在正面4和上面5的连接部位设计有一斜面3,在底部1自后向前设计有一凹槽2;在上面5与凹槽2对应部位设计有两个通孔,在上面5与底部1对应部位设计有一个通孔;在左侧面、右侧面各设计有两个孔,在底部1设计有四个孔;底部1的长度为650mm,底部1的宽度为580mm,底座的厚度为100mm;凹槽2的长度为480mm,凹槽2的宽度为200mm,凹槽2的深度为60mm;制造影像仪工作台底座选用的材料为花岗岩。

以上所述的仅是本实用新型的三个优选实施方式。值得说明的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理的前提下,还可以对本实用新型作出若干变形和改进,故凡依本实用新型专利申请范围所述的构造、特征及原理所做的等效变化或修饰,同样属于本实用新型专利申请保护的范围。

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