[实用新型]四程放大系统远场监视装置无效
| 申请号： | 200820155606.2 | 申请日： | 2008-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN201293902Y | 公开（公告）日： | 2009-08-19 |
| 发明（设计）人： | 高妍琦;刘代中;朱宝强;林尊琪;刘晓凤 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G02F1/35 | 分类号： | G02F1/35;G01B11/26 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人： | 张泽纯 |
| 地址： | 201800上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 放大 系统 监视 装置 | ||
1、一种四程放大系统远场监视装置，特征在于其构成包括：
由依次的第一反射镜(101)、偏振反射镜(111)、第一透镜(105)、半波片(112)、滤波小孔板(106)、第二透镜(109)和第二反射镜(110)构成的四程放大系统，所述的滤波小孔板(106)中心对称地分布着第一滤波小孔(301)、第二滤波小孔(302)、第三滤波小孔(303)和第四滤波小孔(304)，在所述的滤波小孔板(106)后紧贴该滤波小孔板(106)插入取样光栅(113)，所述的取样光栅(113)与所述的滤波小孔板(106)的四个滤波小孔相对应，制作了第一非刻蚀区(411～414)，第二非刻蚀区(421～424)，第三非刻蚀区(431～434)，第四非刻蚀区(441～444)，每个非刻蚀区由四个非刻蚀的小圆区构成，所述的第一非刻蚀区(411～414)、第二非刻蚀区(421～424)、第三非刻蚀区(431～434)和第四非刻蚀区(441～444)的四个非刻蚀的小圆区的对称中心分别构成第一远场基准、第二远场基准、第三远场基准和第四远场基准，对准时，所述的第一远场基准、第二远场基准、第三远场基准和第四远场基准分别与所述的滤波小孔板(106)的第一滤波小孔(301)、第二滤波小孔(302)、第三滤波小孔(303)和第四滤波小孔(304)的中心重合；
在四程放大系统的主激光束外设置发光二极管(108)和准直透镜(107)形成的照明光束(202)以一定角度照明所述的取样光栅(113)，该一定角度由照明光束(202)经所述的取样光栅(113)产生的一级衍射光(205)的方向和所述的主激光(201)经所述的取样光栅(113)产生的一级衍射光(204)的方向重合来决定；
在所述的一级衍射光(205)方向设置成像透镜(114)和CCD探测器(115)，该CCD探测器(115)的探测面位于所述的成像透镜(114)的像平面，该CCD探测器(115)的输出端接计算机。
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