[实用新型]三氯氢硅生产用流化床反应器及其气体分布器

说明书

技术领域

本实用新型涉及化工技术领域的一种流化床反应器，尤其涉及一种三氯氢硅生产用流化床反应器及其专用的气体分布器。

背景技术

三氯氢硅(HSiCl₃)是一种用途非常广泛的有机硅单体，主要用于生产半导体硅、单晶硅和多晶硅，广泛用于国防、国民经济乃至人们日常生活的各个领域。三氯氢硅还是生产硅烷偶联剂和其它有机硅化合物的重要原料。近年来，我国对三氯氢硅的需求量越来越大。

国内现有的三氯氢硅生产装置一般采用小型流化床反应器，直径在50mm以下。其结构大多为筒形，上部直径扩大部分是气固相分离段，该段高有出料口，中部的直筒段是反应段，反应段外包加热器，上部设有硅粉进料口，底部连接下封头，下封头上有氯化氢进气口。这种小型流化床反应器流化质量不好，生产能力低。

发明内容

为了解决上述的技术问题，本实用新型的一个目的提供一种三氯氢硅生产用流化床反应器的气体分布器，提高了流化床反应器的流化质量。本实用新型另外还提供了三氯氢硅生产用流化床反应器，增大了生产能力。

为了实现上述的第一个目的，本实用新型采取如下技术方案：

三氯氢硅生产用流化床反应器的气体分布器，该分布器包括分布板，分布板上分布设有若干个安装通孔，安装通孔内设有风帽，风帽内设有轴向导气孔，轴向导气孔下端导通分布板的下部，轴向导气孔的上端封闭，轴向导气孔沿侧壁周向设有若干个径向出气孔，径向出气孔与分布板的上部相导通。

作为优选，上述的风帽由帽体和连接部构成，帽体凸出分布板设置，连接部通过螺纹设置在安装通孔内。作为再优选，所述的径向出气孔为6个，均匀设置在帽体上。

作为优选，上述的轴向导气孔的直径为5～10mm，径向出气孔的直径为1～3mm。

作为优选，上述的分布板上安装通孔之间的间距为40～60mm。

为了实现上述的第二个目的，本实用新型采用了以下的技术方案：

三氯氢硅生产用流化床反应器，该流化床反应器包括下部的反应段和上部的扩大段，反应段的下部设有硅粉进料口，反应器下部有检修封头，检修封头上设有氯化氢进气口和排渣口，扩大段上部有合成气出口，反应段和扩大段内设有导热油指形管，反应段下部与检修封头之间有氯化氢气体分布器；所述的氯化氢气体分布器采用上述的任意一个技术方案所述的气体分布器。

作为优选，上述的反应段直径为1500mm～3000mm，扩大段直径为3700mm～8000mm；扩大段与反应段的直径比为2.5～2.8；反应段的高度为2500mm～5000mm，扩大段的高度为4000mm～8000mm。

通过以上所述的改进，本实用新型的三氯化硅流化床反应器的结构更为简洁，流化质量更高，生产能力更大，可达10000吨/年～30000吨/年。

附图说明

图1是本实用新型三氯氢硅流化床反应器的结构示意图。

图2是本实用新型气体分布器的结构示意图。

图3是图1中A部放大图。

图4是本实用新型风帽的结构示意图。

图5是图4中A-A剖视图。

具体实施方式

以下通过实施例对本实用新型进行更具体的说明，但本实用新型并不限于所述的实施例。

如图1所示的三氯氢硅生产用流化床反应器，该流化床反应器包括下部的反应段1和上部的扩大段2，反应段1直径为1500mm～3000mm，扩大段2直径为3700mm～8000mm；扩大段2与反应段1的直径比为2.5～2.8；反应段1的高度为2500mm～5000mm，扩大段2的高度为4000mm～8000mm。反应段1的下部设有硅粉进料口7，反应器下部有检修封头4，检修封头4上设有氯化氢进气口6和排渣口，扩大段2上部有合成气出口8，反应段1和扩大段2内设有导热油指形管，反应段1下部与检修封头4之间有氯化氢气体分布器3。

如图2、图3所示气体分布器3包括分布板5，分布板5上均匀分布设有若干个安装通孔9，安装通孔9之间的间距为50mm，安装通孔9内设有风帽10。如图4所示，风帽10由帽体11和连接部12构成，帽体11凸出分布板5设置，连接部12通过螺纹设置在安装通孔9内。风帽10内设有轴向导气孔13，轴向导气孔13的直径为7mm，轴向导气孔13下端导通分布板5的下部，轴向导气孔13的上端封闭。如图5所示，轴向导气孔13沿侧壁周向设有6个径向出气孔14，径向出气孔14的直径为2mm，径向出气孔14均匀设置在上帽体11并与分布板5的上部相导通。