[实用新型]一种铝合金光谱分析用试样模

权利要求书

1、一种铝合金光谱分析用试样模，包括底模座和铰接在底模座上的左模座、右模座，在以左模座及右模座相对一侧的拼缝为中心的位置形成有浇注口以及模腔，其特征在于：在所述的底模座上部对应所述模腔的位置设置有底模镶件，在所述的左模座以及右模座中在模腔周围分别装有左模镶件以及右模镶件，使得所述模腔是由底模镶件以及左模镶件和右模镶件所围成的空间构成，所述底模镶件、左模镶件和右模镶件采用熔点高于试样合金且传热系统高于底模座和左模座、右模座的材质。

2、如权利要求1所述的试样模，其特征在于：所述底模镶件通过螺栓或螺钉固定在所述底模座上，所述左模镶件通过螺栓或螺钉固定在所述左模座上，所述右模镶件通过螺栓或螺钉固定在所述右模座上。

3、如权利要求1或2所述的试样模，其特征在于：所述的浇注口采用夹角α为35°的锥形，上口直径d为35mm。

4、如权利要求1或2所述的试样模，其特征在于：在所述底模镶件对应模腔中心位置设置有圆弧面的凸起。

5、如权利要求3所述的试样模，其特征在于：在所述底模镶件对应模腔中心位置设置有圆弧面的凸起。

6、如权利要求1或2所述的试样模，其特征在于：所述模腔为圆饼状，模腔直径为58mm，高度采用5mm。

7、如权利要求3所述的试样模，其特征在于：所述模腔为圆饼状，模腔直径为58mm，高度采用5mm。

8、如权利要求4所述的试样模，其特征在于：所述模腔为圆饼状，模腔直径为58mm，高度采用5mm。

9、如权利要求5所述的试样模，其特征在于：所述模腔为圆饼状，模腔直径为58mm，高度采用5mm。

10、如权利要求1或2所述的试样模，其特征在于：所述的底模座和左模座、右模座采用H13或QT60-2材质，所述的底模镶件和左模镶件、右模镶件采用紫铜。