[实用新型]基板处理装置无效

专利信息
申请号: 200820179387.1 申请日: 2008-12-04
公开(公告)号: CN201417757Y 公开(公告)日: 2010-03-03
发明(设计)人: 广城幸吉;山本秀幸;竹下和宏;户岛孝之 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;B08B3/04
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 曾祥夌;杨松龄
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种基板处理装置,将基板浸入贮存的处理液中而进行基板的处理,其特征在于,

设有:至少具有相向配置的一对侧壁的处理槽;以及

分别对应于所述一对侧壁而设、向所述处理槽内供给处理液的一对处理液供给机构,

所述一对处理液供给机构构成为:向连接所述一对侧壁的宽度方向上的所述处理槽内的中央侧供给处理液,由此在所述处理槽内所述宽度方向的中央区域形成上升流,

所述一对侧壁的各自的内壁面包括本体部、位于所述本体部上方的突出部以及位于最上方、形成所述处理液溢出的排出口的排出导向部,

所述排出导向部向上且朝所述宽度方向的中央侧的对侧倾斜,

所述突出部包括在所述宽度方向上比所述本体部的上方端部和所述排出导向部的下方端部更靠近所述中央侧的内端部。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,

所述突出部的所述内端部,在所述基板容纳在所述处理槽内时,位于所述基板的上方端部的上方。

3.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,

所述突出部具有向上且朝所述宽度方向的所述中央侧倾斜的内方倾斜部和位于内方倾斜部的上方、向上且朝所述宽度方向的所述中央侧的对侧倾斜的外方倾斜部。

4.根据权利要求3所述的基板处理装置,其特征在于,

所述排出导向部与突出部邻接而配置,

所述排出导向部从所述突出部的所述外方倾斜部的上方端部伸出。

5.根据权利要求4所述的基板处理装置,其特征在于,

所述排出导向部的下方端部相对于所述宽度方向的倾斜角,小于所述突出部的外方倾斜部的上方端部相对于所述宽度方向的倾斜角。

6.根据权利要求4所述的基板处理装置,其特征在于,

所述排出导向部的下方端部相对于所述宽度方向的倾斜角,等于所述突出部的外方倾斜部的上方端部相对于所述宽度方向的倾斜角。

7.根据权利要求4所述的基板处理装置,其特征在于,

所述突出部的外方倾斜部的上方端部相对于所述宽度方向的倾斜角为5°以上、70°以下。

8.根据权利要求4所述的基板处理装置,其特征在于,

所述排出导向部的下方端部相对于所述宽度方向的倾斜角为5°以上、70°以下。

9.根据权利要求3所述的基板处理装置,其特征在于,

所述突出部与所述本体部邻接而配置,

所述突出部的所述内方倾斜部从所述本体部的上方端部伸出。

10.根据权利要求3所述的基板处理装置,其特征在于,

所述突出部还具有配置在所述内方倾斜部与所述外方倾斜部之间、连接所述内方倾斜部和所述外方倾斜部的中间部。

11.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,

所述突出部构成为:使成为所述上升流、到达所述处理槽内的上方区域,然后在所述宽度方向上从所述中央侧流向所述侧壁一侧的处理液,分流为从所述排出口排出的处理液和在所述处理槽内环流的处理液。

12.根据权利要求11所述的基板处理装置,其特征在于,

所述突出部构成为:使从所述排出口排出的处理液,在作为所述上升流在所述处理槽内上升时,比在所述处理槽内环流的处理液在所述宽度方向上更靠近所述中央侧流动。

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