[实用新型]一种釉面上光机无效
申请号: | 200820200965.5 | 申请日: | 2008-09-24 |
公开(公告)号: | CN201291415Y | 公开(公告)日: | 2009-08-19 |
发明(设计)人: | 沈慧萍;丘兆才 | 申请(专利权)人: | 广东科达机电股份有限公司 |
主分类号: | B24B29/02 | 分类号: | B24B29/02;B24B7/22;B24B55/03;B24B41/02;B24B41/04;B24B41/047 |
代理公司: | 广州新诺专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 李德魁;李国钊 |
地址: | 528313广东省佛山*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 釉面 上光 | ||
1.一种釉面上光机,包括瓷砖输送装置,其特征在于:还包括沿着输送装置延伸方向设置的抛光装置,所述抛光装置包括摆动磨台装置,以及置于摆动磨台装置上的磨头装置,所述磨头装置上还设置有冷却系统。
2.根据权利要求1所述的釉面上光机,其特征在于:所述摆动磨台装置包括机架、设置在机架上的支撑架、横梁、转动磨台,以及与转动磨台相连的摆动装置,该转动磨台通过横梁上的转轴装置连接且可绕转轴作匀速摆动。
3.根据权利要求2所述的釉面上光机,其特征在于:所述转动磨台上设置有偶数数目的磨头装置,所有磨头装置对称地分居于转动磨台的中心轴线位置的两侧。
4.根据权利要求3所述的釉面上光机,其特征在于:所述磨头装置包括中心轴、气缸升降装置、置于转动磨台上下分布的磨头装置,置于转动磨台上部的是磨头上部,置于转动磨台下部的行星磨头及连接在磨头上的磨轮,在中心轴上设置有直达磨轮上的冷却液通道。
5.根据权利要求4所述的釉面抛光机,其特征在于:所述冷却系统包括置于输送装置下方的冷却液储存箱、设置在储存箱旁有冷却泵,所述冷却泵通过管路连接将冷却液输送至中心轴的冷却液通道直达磨轮。
6.根据权利要求5所述的釉面上光机,其特征在于:所述输送装置的下方对应于磨头装置的下方设置有集液槽,该集液槽与冷却液储存箱连通,其底面呈坡形斜面结构,该集液槽的最低点位置为集液槽与冷却液储存箱连通点。
7.根据权利要求6所述的釉面上光机,其特征在于:所述冷却液为强氧化性的氧化铈水溶液,该氧化铈水溶液的浓度范围是5~40%。
8.根据权利要求7所述釉面上光机,其特征在于:所述冷却液储存箱内设置有搅拌装置,该搅拌装置包括驱动电机、减速器,与减速器的输出端连接的搅拌手。
9.根据权利要求1所述的釉面上光机,其特征在于:上述输送装置包括机架及带有驱动沿着输送线方向平行设置的辊棒台。
10.根据权利要求1所述的釉面上光机,其特征在于:上述输送装置的进砖入口处设置有以适应于不同砖尺寸的进砖调宽装置。
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