[实用新型]流仪表及其射流振荡器无效

专利信息
申请号: 200820214163.X 申请日: 2008-12-02
公开(公告)号: CN201355259Y 公开(公告)日: 2009-12-02
发明(设计)人: 王湘明 申请(专利权)人: 深圳市思达仪表有限公司
主分类号: G01F1/58 分类号: G01F1/58;G01F1/32
代理公司: 深圳市博锐专利事务所 代理人: 张 明
地址: 518116广东省深圳市龙*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 仪表 及其 射流 振荡器
【权利要求书】:

1.一种流仪表,包括主流入口、主流出口以及具有流体主流道的 射流振荡器,所述主流道是由两侧流体附着壁及上、下壁合围而成的通 道,其入口和出口分别接所述流仪表主流入口和主流出口,其特征在于, 所述流仪表主流入口与所述主流道入口相接处的口径小于或等于所述 主流道入口的口径。

2.根据权利要求1所述的流仪表,其特征在于:所述两侧流体附 着壁之间的夹角在10~70度之间的范围内。

3.根据权利要求1所述的流仪表,其特征在于:还包括设置于所 述主流道上壁或下壁的多个检测电极,至少一个所述检测电极与流体接 触部分的表面积在0.1~300mm2之间。

4.根据权利要求3所述的流仪表,其特征在于:所述多个电极全 部设置于所述主流道的上壁或全部设置于所述下壁。

5.根据权利要求3所述的流仪表,其特征在于:所述多个电极中 一部分设置于邻近所述流体附着壁的所述上壁或下壁,另一部分设置于 所述两附着壁中间的所述上壁或下壁。

6.根据权利要求5所述的流仪表,其特征在于:所述设置于两附 着壁中间的上壁或下壁处的部分电极位于其他电极的上流处。

7.根据权利要求1至6任一项所述的流仪表,其特征在于:进一 步包括对流体进行整流的整流装置,

所述整流装置是具有多个流体通孔的片状机构,设置于所述射流振 荡器流体路径入口;或者

所述整流装置是具有一定长度的楔形流道,所述楔形流道较大开口 一侧朝外,较小开口接所述射流振荡器入口;或者

所述整流装置包括具有多个流体通孔的片状机构、以及具有一定长 度的楔形流道,所述楔形流道较大开口一侧接所述片状机构,较小开口 接所述射流振荡器流体路径入口。

8.根据权利要求1至6任一项所述的流仪表,其特征在于:进一 步包括设置于主流道中央的分流劈,所述分流劈与所述流体路径出口之 间设置有涡流区。

9.一种应用于流仪表的射流振荡器,包括流体主流道,所述主流 道是由两侧流体附着壁及上、下壁合围而成的通道,其入口和出口分别 接所述流仪表主流入口和主流出口,其特征在于,所述流仪表主流入口 与所述主流道入口相接处的口径小于或等于所述主流道入口的口径。

10.根据权利要求9所述的射流振荡器,其特征在于:所述两侧流 体附着壁之间的夹角在10~70度之间的范围内。

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