[实用新型]镀膜玻璃用磁控镀膜真空腔室

说明书

技术领域

本实用新型涉及到一种镀膜玻璃用磁控镀膜真空腔室。

背景技术

传统的镀膜玻璃真空室采用一个腔室，这种腔室在对玻璃两侧抽真空时普遍存在等离子气氛不稳定的现象，极易造成镀膜膜层的不均匀性。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是：将提供一种等离子气氛稳定性较好的镀膜玻璃用磁控镀膜真空腔室。

为解决上述问题，本实用新型采用的技术方案是：镀膜玻璃用磁控镀膜真空腔室，包括：腔室，设置在腔室内的三个隔离通道，在每个隔离通道上分别开设有玻璃输送通道，在玻璃输送通道的上、下两侧分别设置有气氛隔离挡板。

所述的气氛隔离挡板设置在构成隔离通道的墙板上。

本实用新型的优点是：通过采用气氛隔离挡板，使得在对玻璃上、下表面抽真空的时候，能提高等离子气氛的稳定性。

附图说明

图1是本实用新型所述的镀膜玻璃用磁控镀膜真空腔室主视方向的内部结构图。

图中：1、腔室，2、隔离通道，21、墙板，3、玻璃输送通道，4、气氛隔离挡板。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本实用新型所述的技术方案和优点作进一步的描述。

如图1所示，一种镀膜玻璃用磁控镀膜真空腔室，包括：腔室1，设置在腔室1内的三个隔离通道2，在每个隔离通道2上分别开设有玻璃输送通道3，在玻璃输送通道3的上、下两侧分别设置有气氛隔离挡板4。所述的气氛隔离挡板4设置在构成隔离通道2的墙板21上。

本实用新型的优点是：在对腔室进行抽真空时，提高了玻璃横向表面的等离子气氛的稳定性及玻璃的镀膜质量。