[实用新型]一种清除载气式送粉器气体的装置

说明书

技术领域

本实用新型属于表面工程技术领域，具体涉及一种清除载气式送粉器气体的装置。

背景技术

激光熔覆技术是将预置的粉末、丝材等通过聚焦的激光束照射熔化，进而在基体金属材料表面形成熔池，与基体材料熔合的技术。粉末及丝材的输送方式对熔覆质量有很大的影响。通过气体压力和扰动作用将气体均匀吹入熔池的送粉方式称为载气式送粉，载气式送粉的送粉量均匀易控制并可实现微量送粉，但由于载气的存在，粉末进入熔池时容易被吹走，且对熔池产生气体扰动，改变了熔池的温度场，影响熔覆层表面的成形质量。

发明内容

本实用新型的目的是提供一种清除载气式送粉器气体的装置，解决了由于载气存在导致的粉末易吹走、熔池易产生气体扰动的问题。

本实用新型所采用的技术方案是，一种清除载气式送粉器气体的装置，包括下端呈圆锥形的卸气室，卸气室内腔的上部设置有与卸气室内腔半径相同的卸气网，卸气室的底部连通有出粉管，卸气室的侧壁上、卸气网的下部，一斜向上设置的进粉管与卸气室的内腔相连通。

本实用新型的特点还在于，

卸气室的下端锥度为15°～75°，

卸气室的内腔直径至少为15mm。

本实用新型的有益效果是：通过在卸气室内设置卸气网，从而清除送粉气体中存在的载气，解决了粉末易吹走、熔池易产生气体扰动的问题，且结构简单，送粉量精确、微量、稳定易控制。

附图说明

图1是本实用新型装置的结构示意图。

图中，1.卸气室，2.卸气网，3.进粉管，4.出粉管。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型进行详细说明。

本实用新型清除载气式送粉器气体的装置结构，如图1所示，包括圆锥形空腔的卸气室1，卸气室1的下端锥度为15°～75°，卸气室1的内径大于15mm，卸气室1的内腔顶端固定有相适应的卸气网2，卸气网2采用150目以上的金属丝网，卸气室1的底部连接有出粉管4，卸气室1的一侧上开有小口并和向上倾斜的进粉管3连通。

本实用新型装置的工作过程：操作时，进粉管3的一端连接载气式送粉器，提供气载输送的粉末。进粉管3将载气式送粉器的气载粉末引入卸气室1，气体通过卸气网2排出卸气室1外，残余气体经过在卸气室1多次回旋后亦排出室外。粉末在重力作用下进入卸气室1下方漏斗，并汇聚于出粉管4处流出。

本装置采用倾斜的进粉管3将载气式送粉器的气载粉末引入卸气室1，可以将具有最大流速的气体引到卸气网2处充分卸气。卸气室1采用直径大于15mm的圆锥状金属管，具有充足的卸气空间和排气空间。卸气室1下端漏斗锥度15°～75°，可以让粉末顺畅进入出粉管4。卸气网2采用150目以上的金属丝网，防止粉末流出卸气室1，造成浪费和污染。用本装置处理完送粉气体后，通过在出粉管4上连接送粉管，直接将粉末输送至熔池，或预置于熔池前端。

本实用新型清除载气式送粉器气体的装置的工作原理：气载输送的粉末进入卸气室1后，假设卸气室1内压力各处均衡，根据在气压一定的情况下，面积与流量成正比的原理，有以下公式：

出粉管气体流量/总气体流量＝出粉管截面积/总的气体出口面积(1)

其中：总气体流量等于进粉管3气体流量，总的气体出口面积等于卸气网2面积与出粉管4截面积之和。

假设出粉管4直径为4mm，面积为12.56mm²，卸气网2采用直径60mm，高度40mm的丝网，面积为2400mm²。则出粉管4气体流量只占总流量的0.52％。

本实用新型采用斜向上的进粉管3，可以使卸气室1上端的初始压力高于下端，进入卸气室1下端的气体压力已经很小，且出粉管4处的出口面积相对于卸气网2很小，故气载输送的粉末到达卸气网2时，大部分气体从卸气网2排出。

本实用新型清除载气式送粉器气体的装置，通过在卸气室内设置卸气网，从而清除送粉气体中存在的载气，解决了粉末易吹走、熔池易产生气体扰动的问题，且结构简单，送粉量精确、微量、稳定易控制。