[发明专利]等离子体显示设备无效

专利信息
申请号: 200880000567.1 申请日: 2008-04-12
公开(公告)号: CN101601078A 公开(公告)日: 2009-12-09
发明(设计)人: 崔允畅;金丙根;李东洙;金亨载;金元在 申请(专利权)人: LG电子株式会社
主分类号: G09G3/28 分类号: G09G3/28
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 潘士霖;李春晖
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 等离子体 显示 设备
【权利要求书】:

1.一种等离子体显示设备,包括:

等离子体显示面板(PDP),所述等离子体显示面板包括上基板、下基板、置于所述上基板上的多个扫描电极和多个保持电极、以及置于所述下基板上的多个寻址电极;以及

驱动单元,所述驱动单元将驱动信号施加到所述扫描电极、所述保持电极和所述寻址电极,

其中,所述扫描电极被分为一个或更多个扫描电极组,所述扫描电极以所述扫描电极组为单位被施加多个扫描信号,帧的多个子场中的至少一个包括复位时间段、寻址时间段和保持时间段,在所述寻址时间段的开始与发生寻址放电的时间之间的第一子寻址时间段期间将第一扫描偏置电压施加到第一扫描电极组,在发生所述寻址放电的时间与所述寻址时间段的结束之间的第二子寻址时间段期间将第二扫描偏置电压施加到所述第一扫描电极组,并且所述第一和第二扫描偏置电压彼此不同。

2.根据权利要求1所述的等离子体显示设备,其中所述复位时间段包括:

设置上升时间段,在该设置上升时间段期间将具有逐渐增加的电压的倾斜向上信号施加到所述扫描电极组中的至少一个;以及

设置下降时间段,在该设置下降时间段期间将具有逐渐但不持续地减小的电压的倾斜向下信号施加到所述扫描电极组中的至少一个。

3.根据权利要求1所述的等离子体显示设备,其中所述第一扫描偏置电压高于所述第二扫描偏置电压,并低于在所述保持时间段期间施加到所述扫描电极的保持电压。

4.根据权利要求1所述的等离子体显示设备,其中所述第一扫描偏置电压高于将施加到所述寻址电极的寻址信号的最大电压与所述第二扫描偏置电压乘以-1所得的结果,并低于保持信号的最大电压与所述寻址信号的所述最大电压之差。

5.根据权利要求1所述的等离子体显示设备,其中所述第一扫描偏置电压是地电压。

6.根据权利要求1所述的等离子体显示设备,其中所述第二扫描偏置电压是负电压。

7.根据权利要求1所述的等离子体显示设备,其中在所述第一子寻址时间段期间在所述第二扫描电极组中出现寻址放电,且在所述第一子寻址时间段期间负电压作为第三扫描偏置电压被施加到所述第二扫描电极组。

8.根据权利要求1所述的等离子体显示设备,其中所述至少一个子场进一步包括预复位时间段,该预复位时间段随后是所述复位时间段,并且在所述预复位时间段期间具有逐渐减小的电压的倾斜向下信号被施加到所述扫描电极,且具有与所述倾斜向下信号相反的极性的保持偏置信号被施加到所述保持电极。

9.根据权利要求1所述的等离子体显示设备,其中在所述保持时间段期间施加的多个保持信号中的至少两个具有不同的宽度。

10.根据权利要求1所述的等离子体显示设备,其中所述帧的所述子场包括第一子场和具有比所述第一子场更高的灰度级水平的第二子场,在所述第一子场的寻址时间段期间,第一保持偏置电压被施加到所述保持电极,在所述第二子场的寻址时间段期间,第二保持偏置电压被施加到所述保持电极,且所述第一保持偏置电压高于所述第二保持偏置电压。

11.根据权利要求2所述的等离子体显示设备,其中所述倾斜向下信号被施加到首先发生寻址放电的所述扫描电极组中的一个。

12.根据权利要求1所述的等离子体显示设备,其中所述扫描信号包括具有不同的宽度的第一扫描信号和第二扫描信号。

13.根据权利要求1所述的等离子体显示设备,其中在所述第一子寻址时间段期间施加的扫描信号的第一宽度小于在所述第二子寻址时间段期间施加的扫描信号的第二宽度。

14.根据权利要求13所述的等离子体显示设备,其中所述第二宽度是所述第一宽度的1.2-1.6倍。

15.根据权利要求1所述的等离子体显示设备,其中所述寻址时间段进一步包括中间时间段,所述中间时间段位于所述第一子寻址时间段和所述第二子寻址时间段之间,并且在所述中间时间段期间具有逐渐减小的电压的小的倾斜向下信号被施加到所述扫描电极组中的至少一个。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于LG电子株式会社,未经LG电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200880000567.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top