[发明专利]植入物及人工齿根的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种植入物和人工齿根的制造方法。具体而言，例如，本发明涉及一种人工齿根的制造方法，通过喷砂法利用含有氟代磷灰石的喷射材料，将该人工齿根的表面粗糙化，并溶解该喷射材料以将其去除。

背景技术

日本特开10-99438号公开公报中公开了一种牙植入物的制造方法，在该方法中采用喷砂法对所述牙植入物进行表面处理。在该公报上公开的所述方法中是以羟磷灰石作为喷射材料(喷射颗粒)。并且，在该公报中，有意将羟磷灰石嵌入到牙植入物的表面，当牙植入物移植到颚骨中之后，羟磷灰石可作为造骨促进剂(参见摘要等)。

在1000℃以上的高温环境下，羟磷灰石会有少量分解。因此。很难将羟磷灰石制成致密的烧结体。另外，与氟代磷灰石相比，羟磷灰石的硬度不够，难以适度的在植入体表面加工成理想的表面粗糙度。另一方面，常规的喷砂法中使用的喷射材料较硬，以致于在植入物表面划出很深的划痕或裂缝，从而缩短植入物的耐久性。而且，由于常用的喷射材料的生物亲和性差且不利于骨再生，所以喷砂法处理植入物使其表面粗糙化后还要将该喷射材料从植入物中去除。但是，仍存在一个问题，即物理的和化学的方式都不能完全去除喷射材料。

本发明的一个目的在于提供一种具有良好粗糙表面的植入物的制造方法，并且能适当的从中去除喷射材料。

本发明的另一个目的在于提供一种在其表面坚固地结合有一层均质的并且高纯度的羟磷灰石涂层的植入物。

发明内容

本发明主要涉及一种植入物的制造方法，通过喷砂法利用含有氟代磷灰石的喷射材料使其表面粗糙化。虽然与羟磷灰石相比，氟代磷灰石的生物亲和性略差一些，但它具有致密的晶体结构，其制得的植入物在高温下不易分解。因此，在高烧结温度下制造的氟代磷灰石的烧结体的致密性强于羟磷灰石的烧结体，而且其硬度适中，比常用的喷射材料如铝软一些。另一方面，氟代磷灰石易溶解于酸中。由此，通过喷砂法利用含有氟代磷灰石的喷射材料进行表面粗糙化加工，能够制得具有良好粗糙表面的植入物，并且喷射材料很容易被酸去除。

本发明的第一个方面涉及一种植入物的制造方法，包括通过喷砂法使植入物表面粗糙化的步骤，其中该步骤包括由含有氟代磷灰石的喷射材料碰撞植入物表面的过程。

本发明第一方面的一个较佳实施例涉及一种上述植入物的制造方法，其中使植入物表面粗糙化的步骤是使植入物的表面轮廓的算术平均偏差Ra(表面粗糙度)在0.3μm-3μm的范围内。

由于以氟代磷灰石作为喷射材料，所以很容易使该植入物表面粗糙化以使得其表面轮廓的算术平均偏差(Ra)在0.3μm-3μm的范围内。这样，特别是通过溅射涂膜，能够均匀的形成对基体材料如金属具有良好粘合性的高纯度的羟磷灰石薄膜。

本发明第一方面的一个较佳实施例涉及一种上述植入物的制造方法，其中含有氟代磷灰石的喷射材料是经过12-100目细筛筛出的颗粒。

如下述实施例所示，通过使用上述喷射材料，能够制造出具有较好表面粗糙度的植入物。

本发明的第一方面的一个较佳实施例涉及任一种上述植入物的制造方法，其中，所述植入物是一种人工齿根。本发明的第一方面的一个较佳实施例涉及任一种上述植入物的制造方法，其中，所述植入物是一种人工齿根，以及使该植入物表面粗糙化的步骤是使该人工齿根的根部的表面粗糙化以使得其表面轮廓的算术平均偏差(Ra)在0.3μm-3μm的范围内。

如下述实施例所示，本发明的一种植入物的制造方法能有效地用于制造人工齿根，其中，使该人工齿根的根部表面粗糙化加工后涂覆一层较好的羟磷灰石层。

本发明的第一方面的一个较佳实施例涉及任一种上述植入物的制造方法，所述方法进一步包括去除喷射材料的步骤，即，使植入物表面粗糙化的步骤完成后，通过使植入物与酸接触，将碰撞在植入物表面并附着在其上的喷射材料去除。

通过喷砂法将喷射材料吃入到植入物表面。然而，在本发明中，以氟代磷灰石作为喷射材料，能够以酸溶解的方式轻易地将喷射材料从植入物表面去除。

本发明的第一方面的一个较佳实施例涉及任一种上述植入物的制造方法，其中，所述酸是浓度为1N-6N的盐酸溶液或硝酸溶液，其中所述去除喷射材料的步骤包括以盐酸溶液或硝酸溶液浸润该植入物1min-10min。

在本发明中，使用含氟代磷灰石的喷射材料。因此，能够通过有效溶解氟代磷灰石而轻易的将其从植入物表面去除。