[发明专利]低维护涂层和制造低维护涂层的方法

说明书

相关申请的相互引用

本申请要求2007年9月14日提交的美国申请No.60/972,527和2008 年3月26日提交的美国申请No.61/039,760的优先权。

技术领域

本发明提供基底的薄膜涂层。更具体而言，本发明提供玻璃和其他基 底的低维护涂层。本发明还提供制造低维护产品的方法。

背景技术

低维护涂层，例如光催化涂层，是众所周知的。大量的研究已经在试 图发展显示出良好性能的低维护涂层，如自清洁性能和亲水性。

最传统的低维护涂层包括二氧化钛(即，TiO₂)层。尽管许多这些涂层是 有利的，但是有很大的改进余地。例如，希望提供具有低的可见反射和良 好的色彩中性，但仍可以取得良好的光活性水平、亲水性和/或活化能力的 薄的低维护涂层。特别希望提供实现这些性能，同时形成持久、稳定、耐 混浊形成(例如，在回火和其他热处理过程中)的涂层。

发明内容

在某些实施方案中，本发明提供一种具有其上有低维护涂层的主表面 的基底。所述低维护涂层包括含有钛氧化物和氧化钨的功能膜。在本实施 方案中，所述基底是退火状态的玻璃，所述功能膜的厚度小于150，并且 所述低维护涂层的丙酮分解速率大于1.4×10^-10摩尔/(升)(秒)。

本发明的一些实施方案提供一种具有其上有低维护涂层的主表面的基 底。所述低维护涂层包括含有钛氧化物和氧化钨的功能膜。在本实施方案 中，所述基底是回火状态的玻璃，所述功能膜的厚度小于150，并且所述 低维护涂层的丙酮分解速率大于1.8×10^-10摩尔/(升)(秒)。

在一些实施方案中，本发明提供一种具有其上有低维护涂层的主表面 的基底，所述低维护涂层包含基膜和功能膜，所述功能膜含有钛氧化物和 氧化钨。在本实施方案中，所述基膜是在同时流动惰性气体和氧化气体的 气氛中使用至少一个靶沉积的高速溅射膜，优选地，所述惰性气体的流入 速率除以所述氧化气体的流入速率为0.4～2.5。在这些实施方案中的功能膜 是从至少一个具有同时含有钛氧化物和氧化钨的可溅射材料的靶沉积的高 速溅射膜。

某些实施方案提供一种具有其上有低维护涂层的主表面的基底。在本 实施方案中，所述低维护涂层仅具有一层光催化层，所述光催化层在所述 层的整个厚度中含有钛氧化物和氧化钨。此外，在这些实施方案中，所述 基底是退火状态的玻璃，以及所述光催化层的厚度小于150，并且所述低 维护涂层的丙酮分解速率大于1.4×10^-10摩尔/(升)(秒)。在其中的一些实施方 案中，所述光催化层的厚度小于100，并且所述丙酮分解速率大于2.1×10^-10摩尔/(升)(秒)。

一些实施方案提供一种具有其上有低维护涂层的主表面的基底。在本 实施方案中，所述低维护涂层仅具有一层光催化层，所述光催化层在所述 层的整个厚度中含有钛氧化物和氧化钨。此外，在这些实施方案中，所述 基底是回火状态的玻璃，以及所述光催化层的厚度小于150，并且所述低 维护涂层的丙酮分解速率大于1.8×10^-10摩尔/(升)(秒)。在其中的一些实施方 案中，所述光催化层的厚度小于100，并且所述丙酮分解速率大于 6.75×10^-10摩尔/(升)(秒)。